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镀膜观测与模拟研究 　　摘 要：采用物理方法在基底材料上制备薄膜的设备，以及在制备过程中观察膜生长情况的方法。采用蒸发镀膜，或者采用真空溅射沉积方式，在基底材料的表面形成一层薄膜的设备，间接观察成膜表面薄膜形成过程的方法。模拟技术已作为教学的一部分，仿真应用于实验教学训练。 　　关键词：镀膜设备的拓展；有机薄膜观察方法；教学与模拟 　　 　　一、解决的教学问题 　　 　　对于真空镀膜设备种类比较多，目前主要以蒸发镀膜和溅射镀膜机械设备为主。这也就导致了在一台设备上只能得到单一的镀膜产品，现有技术的真空蒸镀设备只能制备真空蒸镀膜，而真空溅射设备只能制备出真空溅射膜。因此，在要求在蒸发膜的上面再制备一层用真空溅射形成的膜时，只能在不同的设备中分别制备不同的薄膜。由于增加了退火处理、加热和新的真空条件的形成等环节，导致了不仅效率低、能耗大，而且还会影响膜的性能；同时，现有制膜设备在工艺实施中无法观察到膜生长的情况，要掌握成膜的厚度一般是根据经验值控制成膜的工艺参数，如：在真空蒸镀沉积成膜时，根据经验控制蒸发源的蒸发温度和时间以控制膜的生长速度和厚度，然后取出样品进行测量，得到成膜的实际厚度，可见，采用现有技术要得到预想的、较精确的薄膜厚度在实际中很难掌握。 　　 　　薄膜生长观察方法①一般的薄膜生长，用黑板画图和计算机模拟的方法而教学。本发明是一种采用物理方法在基底材料上制备薄膜的设备，以及在制备过程中观察膜生长情况的方法。采用真空沉积蒸镀，或者采用真空溅射沉积方式在基底材料的表面形成一层薄膜的设备，和采用这种设备在制备工艺过程中，用摄象机间接观察成膜表面薄膜形成过程的方法，使得教学更加实际。 　　②对于不同材料、不同配方，其蒸发温度都不一样，也就是说对于特定的蒸发材料要准确判断定位其蒸发点，是不容易的，需要有一套方法使更直观的显示材料的蒸发温度点。 　　 　　二、解决教学问题的方法 　　 　　（1）实现了在一台设备上分时实现真空蒸镀和真空溅射成膜的复合功能 　　本装置除镀膜室外，真空系统和电气系统与现有技术的设备是相同的。镀膜室由真空室壳体和位于镀膜室壳体下的底板构成。在镀膜室壳体上设置有充气阀和观察窗；在底座上分别设置有电阻加热蒸发器、辐射式坩锅蒸发加热器、用于溅射的靶、干涉光源、摄像头以及用于设置固定可拆卸的辐射式坩锅蒸发加热器的机构；在底板上还设置有转轴和一个固定架，在固定架上设置有用转轴驱动的可转动托盘，用于设置固定样片衬底加热器或可拆卸的辐射式坩锅蒸发器等。 　　电阻加热蒸发器是用钨丝或钼舟制作成蒸发源，使被蒸镀材料加热熔化达到蒸发，实现镀膜作业，其优点是结构简单，造价低廉，操作方便。同时本发明中还设置了辐射式坩锅蒸发器，这种蒸发方式，特别适合于粉末材料或者有机材料的蒸发，而且可以避免颗粒蒸发材料因蹦溅而产生的浪费，也可以通过在坩锅中先后放入不同的材料实现在样片上蒸镀或溅射不同材料层的多层薄膜，如电极―有机薄膜―电极―有机薄膜。 　　（2）薄膜形成过程的观察方法 　　本发明的薄膜制备装置设计制作了利用光的等厚干涉原理观察发光薄膜表面生长过程的装置，并成功地运用于有机发光薄膜表面生长过程的观察和薄膜厚度预测。用紫外光均匀地照射在形成薄膜上，随着成膜表面薄膜的形成，其表面逐渐出现带有颜色的干涉光斑，随着所生成薄膜厚度的增大，所形成的干涉光斑色泽逐渐加深。根据所见干涉光斑颜色及色度的改变可以间接观察到薄膜生成的情况及其膜厚度的变化。 　　（3）技术经济指标 　　改装后的真空镀膜设备，避免了因镀膜需要而多次打开膜室造成的能源浪费，因此本发明专利尽管申请完成不久，由于其具备的诸多优点，已经得到多家真空仪器设备厂的青睐。下一步既是对其应用的推广。 　　 　　经验内容：本经验提供一种可克服现有设备技术不足情况下，能在一台设备上分时实现真空蒸镀和真空溅射成膜的装置，并可以及时进行样品退火处理的设备，本发明的装置还可在成膜同时间接观察膜生长情况；同时本经验提供一种间接观察膜生长情况的方法。 　　薄膜制备装置中所用的干涉光源为可发出紫外光的发光晶体管，且发光晶体管设置于摄像头旁边。 　　薄膜制备装置的镀膜室底板上还设置有转轴，转轴上设置有可转动的活动挡板。薄膜中薄膜生长的观察方法是用紫外光均匀地照射在形成薄膜上，随成膜表面形成薄膜厚度增加，成膜表面逐渐出现带有颜色的干涉光斑，随所生成薄膜厚度增大，成膜发出的干涉光斑色泽逐渐改变并逐渐加深，根据所见干涉光斑颜色及色度的改变可以间接观察到薄膜生成的情况及其膜厚度的变化。 　　进行成膜干涉观察时，使观察视线与薄膜平面间夹角成20至30度会有最佳的观察效果。 　　装置的镀膜室中同时设置有电阻加热蒸发器、辐射式坩锅蒸发器、用于溅射沉积的溅射靶，显然，