二氧化硅自组装法制备纳米吸墨层及其对吸墨作用的影响-高分子化学与物理专业论文.docx

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二氧化硅自组装法制备纳米吸墨层及其对吸墨作用的影响-高分子化学与物理专业论文

Classified Index: TQ433.4 U.D.C: 678 Dissertation for the Master Degree in Engineering RESEARCH ON INK-JET PAPER COATING PREPARAED BY SELF-ASSEMLY AND THE INFLUENCE TO INK ABSORBING Candidate: Meng Li Supervisor: Prof. Li Liu Academic Degree Applied for: Master of Science Speciality: Polymer Chemistry and Physics Affiliation: School of Chemical Engineering and Technology Date of Defence: July, 2013 Degree-Conferring-Institution: Harbin Institute of Technology 摘 要 随着喷墨打印技术的进步,作为喷墨打印机的配套产品,彩色喷墨打印纸的 需求量也大大增加,作为彩喷纸的核心成分,吸墨层的研制越来越被人们所关注。 本文通过将自组装技术应用于彩喷纸吸墨层制备中,制备得到孔隙分布均匀、结 构有序性大大提高的吸墨层结构,改善吸墨层扩散晕墨等现象,在未来数码喷绘 领域节能环保方面具有一定的潜力,同时研究了墨水在吸墨层中的浸润过程,对 影响吸墨层综合性能的因素进行了探讨。 本文先后制备了单分散纳米二氧化硅微球、沉积法纳米吸墨层和共生长法纳 米吸墨层,所制备的两种纳米吸墨层均实现了结构有序、表面平整、孔隙丰富、 分布均匀。研究了催化剂、溶剂、滴加速度及温度对二氧化硅微球粒径的影响; 沉积法吸墨层制备中温度、二氧化硅溶胶浓度对三维有序颜料层结构的影响及沉 积时间、PVA 浓度对沉积法吸墨层结构的影响;在共生长法吸墨层的制备中,研 究了二氧化硅微球浓度、二氧化硅与 PVA 混合液粘度对共生长吸墨层结构的影响。 本文采用表面能、表面张力、接触角等方法综合评价了两种吸墨层的浸润行 为,提出了吸墨层扩散程度的表征方法,研究了吸墨层孔隙率、比表面积和成像 效果。共生长法吸墨层在表面能、接触角和扩散程度方面均优 于沉积法吸墨层, 其表面张力可达 45.80mJ·m-2,接触角达 10.10°,均与某品牌商品化彩喷纸相当, 其扩展程度为 1.14,与某品业化彩喷纸的扩散程度 1.13 相当。在孔隙结构方面,, 结构有序纳米吸墨层的比表面积与商品化彩喷纸相近,但孔隙体积略小,而孔隙 尺寸明显小于商品化彩喷纸,适用于小墨水喷出量的“省墨打印机”,具有在喷墨 打印方面实现节能环保的潜力。 关键词: 吸墨层;浸润行为;彩喷纸;三维有序结构 Abstract As the ancillary products, ink-jet paper are becoming more and more popular with the development of ink-jet printing technology. As the core components, the ink-jet printing paper coatings has been given considerable attention by the public. In this paper, the ink-jet coating with uniform pore and ordered structure was prepared by using self-assembly technology. The coating with ordered structure has the potential about energy saving enivera protecting in the area of digital ink-jet printing. In the paper, the monodisperse silica nanoparticles, nano ink-jet coating of precipitation and nano ink-jet coating of co-assembly. The factors that influence the size of nanoparticles such as the catalyst, the solvent, the speed of dropping, the temperature, the factors that affect the struct

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