多硫化钠法表征纯铜带表面清洁度-中南大学学报.PDFVIP

第 48 卷第 7 期 中南大学学报( 自然科学版) Vol.48 No.7 2017 年 7 月 Journal of Central South University (Science and Technology) July 2017 DOI: 10.11817/j.issn.1672-7207.2017.07.005 多硫化钠法表征纯铜带表面清洁度 1 1, 2 1 彭展南 ，刘雪峰 ，林冠群 (1. 北京科技大学 材料科学与工程学院，北京，100083； 2. 北京科技大学 现代交通金属材料与加工技术北京实验室，北京，100083) 摘要：利用多硫化钠(Na S )溶液与纯铜带反应，采用光学显微镜(OM)、扫描电镜(SEM)、X 线衍射仪(XRD)和 X 2 x 线光电子能谱仪(XPS)对反应后表面层的形貌、物相和元素进行分析，考察硫指数 x 和反应时间对表面层形貌的 影响，并对多硫化钠法表征纯铜带表面清洁度的可行性进行探讨。研究结果表明：与多硫化钠反应后，纯铜带的 表面层主要由黑色或灰黑色 Cu S 组成的析出层，Cu S 的形貌不随时间而变化，保持均匀、光滑的颗粒状。随硫 2 2 指数的增加和反应时间的延长，纯铜带的表面层形貌变化规律一致，均为 Cu S 析出层逐渐加厚，Cu S 小颗粒聚 2 2 集形成短棒或大颗粒，然后析出层出现开裂，最后是裂纹的扩展和脱落。多硫化钠法可以用于定量表征纯铜带的 表面清洁度，反应后纯铜带表面黑色区域面积占整个纯铜带表面面积的百分比即为纯铜带的表面清洁度。 关键词：多硫化钠；纯铜带；表面形貌；表面清洁度 中图分类号：TG146.1 文献标志码：A 文章编号：1672−7207(2017)07−1719−07 Characterization of pure copper strip surface cleanliness by sodium polysulfide method PENG Zhannan1, LIU Xuefeng1, 2, LIN Guanqun1 (1. School of Materials Science and Engineering, University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, China; 2. Beijing Laboratory of Metallic Materials and Processing for Modern Transportation, University of Science and Technology Bei