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铜纳米线透明导电膜的制备与性能-材料与测试
第 卷 第 期 机 械 工 程 材 料
36 12 Vol.36 No.12
年 月
2012 12 Dec. 2012
Materials for MechanicalEnineerin
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铜纳米线透明导电膜的制备与性能
1 2 2
杨 光 ,周伟斌 ,王 强
(常州大学 测试中心; 材料科学与工程学院,常州 )
1. 2. 213000
摘 要:用水合肼还原硝酸铜溶液的方法,合成出高长径比的单晶铜纳米线,用 射线粉末衍
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射仪、扫描电镜、透射电镜等对产物进行了分析,研究了原料配比、水合肼加料方式等工艺因素对反
应产物的影响;用孔径为0.45 m的注射式过滤膜滤出铜线并接触转移到透明商用手机贴膜表面
μ
制成铜纳米线膜,用紫外 可见光谱仪和四探针表面电阻仪分别测试其可见光透射率和表面电阻。
结果表明:80℃时,制备的铜纳米线长度大于40 m,直径小于100nm;铜纳米线膜的可见光透射
μ
率为50%,平均方块电阻为26Ω。
关键词:铜纳米线;导电;透明;薄膜
中图分类号: 文献标志码: 文章编号: ( )
TB383 A 100037382012012008905
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