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第6章 集成电路器件
6.1 无源器件结构及模型
集成电路中的无源元件包括:互连线、电阻、电
容容、、电感电感、、传输线等传输线等
1
6.1.1 互连线
在混合集成电路和单片集成电路的衬底上,互连线大多数是由金属薄层形成的条带。
不同衬底上的电路的互连可能用到金属裸线或电缆。
互连线设计应该注意以下方面:
尽量短:减小信号或电源引起的损耗、减小芯片面积
最小宽度最小宽度::传输微弱电流传输微弱电流,,提高集成度提高集成度
保留足够的电流裕量:传输大电流
多层金属:提高集成度
趋肤效应和寄生参数 ( )
微波和毫米波
寄生效应:传导电阻实现低值电阻;
寄生电容用作微波或毫米波信号的旁路电流。
2
深亚微米阶段后,互联线的延迟已经超过逻辑门的延迟,成
为时序分析的重要组成部分 应采用链状RC网络、RLC网络
或进一步采用传输线来模拟互联线
常见的寄生效应有串联寄生电阻、并联寄生电容
电源和地之间,电阻造成直流和瞬态压降;
长信号线上,分布电阻电容带来延迟;
导线长距离并行或不同层导线交叉时,带来相互串扰问题
为了保证模型的精准度和信号的完整性,需要对互联线的版
图结构进行约束和规整图结构进行约束和规整
典型的串联寄生电阻值:
金属0.05Ω/ □,多晶硅10-15Ω/ □,扩散区20-30Ω/ □
简单长导线的寄生模型 33
单位长度电容,经验计算公式:
w w 0.25 w 0.5
C e [ 0.77 1.06( ) 1.06( ) ]
h h h
简单并联寄生电容
复杂互联线的寄生电容是由许多简单的寄生电容叠加而形成的
4
6.1.2 电阻
电阻是模拟电路的最基本的元件,在集成电路中有
多种设计和制造方法,分为无源电阻和有源电阻
实现电阻有4种方 :
1.晶体管结构中不同材料层的片式电阻
2.专门加工制造的高质量高精度电阻
3.互连线的传导电阻
4.有源电阻
5
电阻的计算
R =ρL/ dW=(ρ/d)L/W
方块电阻方块电阻
薄层导体的电阻R 与L/W成正比,当L=W时,有R=ρ/d。
定义比例系数ρ/d 为方块电阻(用R□表示),单位为欧姆。
R□表示一个正方形材料的薄层电阻,它与正方形边长的大
小无关, 只与半导体的掺杂水平和掺杂区的结深 (即材料厚
度)有关。
R□=ρ/d R= R□L/W
1.晶体管结构中不同材料层的片式电阻
双极型硅工艺:掩埋集电极的N+层,2-10 Ω/ □
基极P-层,KΩ/ □
CMOS工艺:阱区形成片式电阻
优点:实现10Ω-10KΩ的电阻值
缺点缺点::晶体管结晶体管结构材料层构构材料层构成成,,导致电阻随工艺和温度变导致电阻随工艺和温度变
化较大
2.专门加工制造的高质量高精度电阻
CMOS工艺:多晶硅形成薄膜电阻
GaAs工艺:镍、铬金属共同蒸发形成薄膜
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