电压对TiAl合金含ZrO2微弧氧化膜生长特性的影响.pdf

第46 卷 第 5 期 表面技术 2017 年5 月 SURFACE TECHNOLOGY ·1 · 专题—轻合金微弧氧化技术 电压对 TiAl 合金含 ZrO 微弧氧化膜生长特性的影响 2 1 1 1 1 2 郭超飞 ，郝建民 ，陈永楠 ，陈宏 ，丁业立 （1.长安大学 材料科学与工程学院，西安 710064；2.山东交通学院 海运学院，威海 264200） 摘 要： 目的在TiAl 合金表面制备较厚的含ZrO 相的微弧氧化膜层，并研究电压对微弧氧化膜层生长特 2 性的影响。方法 采用可溶性锆盐电解液体系，分别在480、500、520 V 电压下对TiAl 合金试样进行微弧氧 化处理。分别采用涡流测厚仪、扫描电子显微镜和X 射线衍射仪，检测膜层的厚度、微观形貌和物相组成。 结果 在480、500、520 V 电压下制备的膜层厚度分别为18、28、48 μm ，电压小幅度的增加使膜层厚度大 幅度增加。膜层的主晶相为t-ZrO ，并含有m-ZrO 、Al O 和TiO 相，随着电压的升高，m-ZrO 相的含量 2 2 2 3 2 2 略有增加。膜层表面有许多大小不一的类似于“火山口”的微孔和一些陶瓷颗粒，随着电压的升高，微孔孔径 增加，膜层表面粗糙度增加。结论 电压对膜层相组成的影响较小，对膜层微观形貌和厚度具有显著影响。 较高电压有利于提高膜层的厚度，同时会增加膜层的粗糙度和表面微孔孔径。 关键词：TiAl 合金；微弧氧化；生长特性；ZrO2 ；膜层厚度；电压 中图分类号：TG174.44 文献标识码：A 文章编号：1001-3660(2017)05-0001-05 DOI ：10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.05.001 Effect of Voltage on Growth Characteristics of Ceramic Coating Containing ZrO2 Prepared by Microarc Oxidation on TiAl Alloy 1 1 1 1 2 GUO Chao-fei , HAO Jian-min , CHEN Yong-nan , CHEN Hong , DING Ye-li (1.School of Materials Science and Engineering, Changan University, Xian 710064, China; 2.Shandong Jiaotong University Maritime College, Weihai 264200, China) ABSTRACT: The work aims to fabricate microarc oxide coating containing ZrO phase on TiAl alloy, and study effec