FT-IRspectra③-东京大学宇宙线研究所.ppt

Sample(BPDA/ODA) Sample(PMDA type) EB EB Cosmic ray Cosmic ray (tokyo univ) Color difference２ Color difference３ Tensile test(Width) FT-IR absorbance spectra(BPDA/PDA) FT-IR（A） UV-VIS（Rn） UV-VIS（K） Conclusion * ポリイミドフィルムの宇宙線に対する 耐性の研究 　　　神奈川大学　大石富士夫、立山暢人 　　　東大宇宙線研究所　瀧田正人 2003年7月13日～ （乗鞍宇宙線観測所?屋内?屋外借用） 構造、製造工程の異なる4種類のポリイミドフィルムにおいて、 乗鞍宇宙線観測所の屋外および屋内での宇宙線暴露、 電子線照射装置を用いたEB照射を行う。 劣化に伴う構造?物理変化や強度変化を解析する。 すでに航空?宇宙環境で一部使用されている PMDA系PI（Kapton）と二種類のBPDA系PIとの比較を行い、 BPDA系PIの航空?宇宙環境での使用の可能性を探ることを 目的とする。 Purpose 目的 方法 ○　環境 　　EB照射、乗鞍屋内暴露、乗鞍屋外暴露、熱水浸漬（40h）、 　　水蒸気暴露(40h） ○　表面変化 　　色差測定（L*a*b*）①、光沢度測定(鏡面反射)、 　　VMS（ビデオマイクロスコープ?表面観察）、UV-VIS④ ○　構造物理変化 　　引張強度試験②、 　　顕微鏡IR（赤外吸収スペクトル、ATR法）③　 [ポリイミドの特徴] 　熱可塑性、高温流動性、成形加工性、耐加水分解性に優れている 　耐熱性（熱分解開始温度～500℃） 　　　微細回路を持つベースフィルム、自動車?航空機エンジン廻り部品、電子電気部品、 　電気絶縁性（誘電率3.2～3.4、高い絶縁破壊電圧、絶縁欠陥少） 　　　電線、エナメル線、積層板、塗料、電子材料（保護膜、絶縁膜、レジスト等） 　　　フレキシブルプリント基板[OA機器，カメラ用]、電線被覆材等 　　　半導体の応力緩和用（バッファーコート膜）、表面保護用 　耐薬品性（有機溶剤に不溶、酸?アルカリの化学薬品に対し耐性、寸法変化率小） 　耐放射線性（のCo-60γ線4,000Mradで強度、伸度が５０％） 　　　ヒンジレス伸展マスト 半導体関連材料、自動車関連材料（複写機の軸受けや自動車のタイヤホイール）、液晶表示装置、ジェットエンジンカバー、スペース?シャトル、航空機構造体 など Biphenyltetracarboxylic dianhydride(BPDA) ＋ 4,4′-diaminophenylether(ODA) PI(BPDA/ODA ) [Rｎ] BPDA type PI Sample -2nH2O Sample(BPDA/PDA) ＋ p-diaminobenzene(PDA) PI(s-BPDA/PDA ) [S] BPDA type PI Sample -2nH2O Biphenyltetracarboxylic dianhydride(BPDA) Pyromellitic dianhydride(PMDA) PI(PMDA/ODA ) ＋ 4,4‘-diaminophenylether(ODA) Kapton type [K] ,APICAL type[A] PMDA type PI Sample -2nH2O 　エレクトロンビーム（EB）は、高速の電子線である。 主に被照射物質の表面で作用する。 フィラメントを加熱して熱電子を放出させ、フィラメント－窓（陽極）間に高電圧をかけてその電子を加速させることによってEBを発生させる。 EB照射装置の外観 （岩崎電気（株）製 CB250/15/180） EB照射装置の概略図 Link Prev. EBの高分子製品への利用例 　 ?滅菌処　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 ?照射架橋による表面改質　（ビニルテープ、電線の被覆材料等の耐熱温度?強度の向など）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 ?高分子製品へ塗布した塗料等の硬化（インキの高速乾燥、アクリル系塗料の塗布による光沢加工紙の製造、帯電防止材塗布による帯電防止フィルムの製造など） Electron Beam Electron Beam EB照射装置の設定条件 使用装置 ：電子線照射装置CB250/10/180L（岩崎電気製） 加速電圧 ：150KV 電流値 :7.16mA ドレン電流 ：0