离子束刻蚀辅助飞秒激光加工制备碳化硅微光学元件.PDF

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第 卷第 期 光 子 学 报 47 12 Vol.47No.12 年 月 2018 12 ACTAPHOTONICASINICA December2018 : / doi10.3788 zx1214003 g 离子束刻蚀辅助飞秒激光加工制备 碳化硅微光学元件 , 1 1 12 1 , , , 于磊 杨双宁 刘学青 李德辉 ( , ) 1吉林大学 集成光电子学国家重点实验室 长春 130012 ( , ) 2清华大学 精密测试技术及仪器国家重点实验室 北京 100084 : , 摘 要 为了解决飞秒激光加工硬质材料所带来的表面质量差的问题 提出了离子束刻蚀与飞秒激光复 , 合加工技术 利用飞秒激光加工技术在碳化硅表面制备微纳结构图形 然后通过离子束刻蚀技术对碳化 . , , 硅微纳结构进行刻蚀 以调控结构的线宽和深度 使结构表面粗糙度由约 降低到 研究 106nm 11.8nm. , 表明 利用该技术制备的碳化硅菲涅尔波带片展现出良好的聚焦和成像效果. : ; ; ; ; 关键词 超快激光 半导体加工技术 离子束刻蚀 碳化硅 微光学元件 中图分类号: 文献标识码: 文章编号: ( ) TN249 A 1004-4213201812-1214003-6 IonBeamEtchin AssistedFemtosecondLaserMachinin toManufacture g g SiliconCarbideMicro-oticalCom onents p p , 1 1 12 1 , , , YULei YANGShuan-nin LIUXue-in LIDe-hui

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