培训系列之真空技术概况.pptVIP

将一金属针尖电极靠近样品表面，样品与针尖之间加一个电场，有电流在两电极之间隧道穿通过。当针尖沿样品表面扫描时，由于样品表面结构起伏，使得针尖与样品间的距离S在改变，相应的电流更敏感的改变，记录这个变化，并将其显示在计算机的荧光屏上，得到了样品表面的形貌图像。这就是STM的工作原理。 图1 扫描隧道显微镜(STM)原理图 (1A=10-10m=0.1nm) 我国中科院庞世瑾教授（东北大学兼职博士生导师）主持的北京真空物理实验室，用电流脉冲工作模式搬动Si（111）7×7表面的原子，写出了“中国”字样，被认为是国际水平的技术，大长了中华民族的志气。如2，3，4，5，6，图所示。 图2 正负偏压下Si（111）7×7表面原子像 图3 Si(111)7×7表面结构模型 图4 可变温度超高真空扫描隧道显微镜 图5 在Si(111)面上操纵原子些汉字 图6 搬动原子写中国 主讲人：东北大学 杨乃恒 教授 在航天器中的科学实验装置和服务系统要求高真空条件的可利用周围的空间真空环境抽气来达到要求； 特殊的微重力实验装置，要求在10-8Pa时必须另加抽气机组抽气； 在微重力（10-5g）条件下，要求极高真空10-10Pa时，必须采用分子屏试验平台技术，用于分子束外延在空间生长半导体薄膜和超导薄膜等。 航天器在宇宙空间就是一个气源，放气、出气和生气等，以航天器表面附近的气体密度是周围环境气体密度的2.5~3倍。在200km的高空，离表面2米远处的气体分子密度是表面气体密度的十分之一。 （1）航天器周围由于大气分子碰壁引起的压力公式 式中P——为航天器表面附近的压力 P0——为大气环境压力 β——为与坐标的夹角 （航天器速度μ与气体最可几速度之比，对在轨航天器Sm＞＞1 ） 在航天器的前方 ，压力最大的为 在航天器后面 （2）航天器出气后附近形成的压力 在航天器后面P≈0，因而出气就成了主要的气源。如各表面均匀出气，再考虑u=8~ 10km/s的飞行速度。利用三维蒙特卡罗法计算出周围气体分子密度分布的等位线。（见图1）航天器出气率4.1×10-6Pal/(cm2·s)，航天器前面和侧面的气体压力高出环境压力0.5倍，而后部出气形成的压力较低，接近环境压力。 （1）高真空容器的在轨排气 在舱中的高真空容器（微重力加工炉）常用管道接到航天器外，利用环境真空抽气。当管道口背向飞行方向时，从管道扩散出的气体将将飞向空间不再返回。这类抽气、真空容器的压力为 式中PL——为容器的极限压力； Q——为容器的出气量； v——为管道的通导； P1——为（1）式表示的由环境大气在排气口附近造成的压力； P2——约等于（0.5~1）P0 当排气口背向飞行方向时P1→0，因而Pl 主要取决于Q和 v。由于管道阻力限制，Pl实际上只能达到 （2）超高真空容器的排气 当舱内真空容器要求超高真空是，利用环境真空达不到要求，把带真空泵的抽气系统和环境真空抽气系统结合起来，环境真空抽气做真空泵抽气的前级抽气系统。所用的超高真空泵体能要小、重量轻、能耗低，多将泵装在容器中，如常用离子泵，表面吸气泵和微型涡轮分子泵等。 分子屏试验平台是一种能够达到极高真空条件的材料试验平台（见图2）。可用绳、带连接在航天器上也可组装在大型空间站上。 为了能使平台内达到低于10-11Pa的极高真空，分子屏多设计成开口结构，可以是半球形、锥形、柱形或角形等。 利用 的条件是空间环境对分子屏产生理想的抽速，使屏内外分子压力相差7个数量级左右。在200~300km的地轨道上，分子屏可获得10-11Pa~10-12Pa（H2），10-16Pa（对其他气体）的极高真空环境。 利用分子屏进行材料加工和分子束外延生长有如下优点： 1）能获得极高真空条件； 2）空间环境对它的抽速很大； 3）器壁出气的影响很小。 典型的5m直径的分子屏，利用太阳能烘烤后，304不锈钢的出气率降到10-12Pal/(cm2·s)。 在实际的飞行轨道上，分子平均自由程在400米以上，远远大于分子屏的尺寸，在分子屏上反射的分子对分子屏周围环境的干扰可以忽略不计。 只有航天器的速度u→∞时，屏内分子密度→0，以宇宙速度飞行的分子屏内分子密度有个下限。高度为200~1000km时其压力下限为（1~2）×10-12Pa。 这种利用分子屏的实验还处于初级阶段，文献报导是制造纯钍的最优方法。 分子屏真空室没有各种泵和管道的污染，是一种极为清洁的真空室。 这种利用分子屏的实验还处于初级阶段，文献报道是制造纯钍的最优方法。 课程结束 谢 谢 大 家！ E N D * 薄膜分析仪(膜厚、折射率等) 真空技术的应用 光学 真空技术的