电子仪器与量测技术_Ch4.ppt-物理学系.pptVIP

膜厚量測原理 演講者：楊仲準 電子儀器與量測技術 中原大學物理系 膜厚量測 鍍膜的類型 單晶膜、多晶膜/顆粒膜、非晶膜 膜厚量測的原理與類型 In situ ＆ 即時量測 獨立量測 膜厚量測常見問題 折射、反射、透射、散射、吸收、高度校正 雜訊的串入 大綱 膜厚量測 鍍膜的類型 膜厚量測 鍍膜的類型 單晶膜、多晶膜/顆粒膜、非晶膜 膜厚量測 膜厚量測原理與類型 膜厚量測 膜厚量測原理與類型 In situ 即時量測 – 石英振盪膜厚計 膜厚量測 膜厚量測原理與類型 In situ 即時量測 – RHEED(反射高能電子繞射儀) 膜厚量測 膜厚量測原理與類型 獨立量測 – 橢偏儀 橢偏儀(Ellipsometry)是一種利用橢圓偏振光來測量厚度、複折射率或介電常數的 一種技術。透過同時考慮已知偏振態的入射光與由待測物反射之反射光的振幅與 相位變化，來獲得光學常數與膜厚的資訊。 流程： 起偏器將光源發出的光轉為線偏振態。 入射光與反射光路徑在同一平面上(稱為入射平面)， 被偏振為與此平面平行及垂直的光，則分別稱之為「s」或「p」偏振光。 經由待測物反射成為橢圓偏振態。 最後再由檢偏器及光偵測器測得其振幅及相位變化。 「s」及「p」成份之振幅（強度） 在反射及對其初始值做正規化之後， 分別標示為?rs及rp。 膜厚量測 膜厚量測原理與類型 獨立量測 – 橢偏儀