光罩管理系统的优化来降低Haze的影响-集成电路专业论文.docxVIP

PAGE PAGE VI HAZE REDUCTION BY MASK MANAGEMENT SYSTEM OPTIMIZATION ABSTRACT When Mask used in Fab, mask will grow Haze due to environment and the method of mask storage. Haze growth is still a challenging topic in the world, though Haze growth isn’t the biggest problem in the Fab. The biggest impact is that yield lost by Haze could not be caught in time and mask with Haze remain in use, and production cycle time delay due to mask remount. Studies on Haze reduction in the world are focused on how to find Haze earlier and reduce wafer yield impact. This paper will show how to optimize mask management system to meet the target of Haze reduction. We succeeded in setting up mask inspection system to find early Haze and optimize mask management system to reduce Haze impact. KEY WORDS : mask, mask pod, RTMS, Haze, IRIS 目 录 第一章 绪论 1 1.1 集成电路发展的历史及趋势 1 1.1.1 什么是集成电路 1 1.1.2 集成电路的分类 2 1.1.3 集成电路发展的历史 3 1.2 课题研究背景和意义 6 1.3 国内外最新研究状况 7 1.3.1 一种 Haze 形成的新模型和光罩存储时间的评估 7 1.3.2 先进的光掩模制造工艺 13 1.4 论文结构框架 17 第二章 Haze 现象的描述 18 2.1 光罩的基本特性 18 2.1.1 光罩的定义 18 2.1.2 光罩的构成 19 HYPERLINK \l _TOC_250002 2.2 Haze 缺陷产生的原理和机制 21 2.2.1 Haze 的现象和在 wafer 上的表现 21 2.2.2 Haze 缺陷产生的原理和机制 21 2.2.3 Haze 发生与曝光波长的关系 22 HYPERLINK \l _TOC_250001 2.3 光罩制作流程中对于 Haze 产生的贡献 23 2.3.1 光罩的生产流程介绍 23 2.3.2 光罩生产流程中用到的化学品 25 HYPERLINK \l _TOC_250000 2.4 光罩使用过程中对 Haze 的贡献 25 2.4.1 光罩盒的影响 25 2.4.2 Fab 环境的影响 27 2.5 小结 28 第三章 光罩管理系统的介绍 29 3.1 光罩管理系统的介绍 29 3.1.1 IT 支持的光罩管理系统 29 3.1.2 光罩盒管理系统 30 VII VII 3.1.3 光罩存储系统 30 3.1.4 光罩检测系统 31 3.2 目前系统中对光罩产生 Haze 的影响 31 3.2.1 光罩盒管理系统的缺陷 31 3.2.2 光罩存储系统的缺陷 34 3.2.3 光罩检测机制的缺陷 35 3.3 优化光罩管理系统来降低 Haze 产生的发展方向 35 3.4 小结 36 第四章 光罩管理系统的优化和成果 37 4.1 光罩盒管理系统的优化和成果 37 4.1.1 建立光罩盒清洗机制 37 4.1.2 建立光罩盒零部件更换机制 38 4.1.3 建立光罩盒清洗流程 41 4.1.4 建立光罩盒编码和报废机制 42 4.1.5 评估新光罩盒来满足 193nm 以下制程的需要 42 4.2 优化光罩的检测机制 43 4.2.1 优化光罩 IRIS 检测机制 43 优化光罩 STAR-light 检测机制 44 建立光罩 Print-down 检测机制 45 4.3 小结 47 第五章 总结 48 参 考 文 献 49 致 谢 52 攻读学位期间发表的学术论文 53 VIII VIII 图片目录 图 1-1 历代存储器