含硅聚酰亚胺及其复合薄膜的制备与性能-生物医学工程专业论文.docxVIP

摘要接 摘要 接 要 芳香族聚酰亚胺是一类具有耐高温、耐低温、耐辐射、优异的化学稳定性，极佳的电 性糍秘良好力学强度舱毫分子材料，已在航天航空、电气电子等塞技术镁域撂到广泛应J{{；|。 目前，含硅聚酰亚胺的合成、特性及应用研究是聚酰亚胺研究领域的熟点之一。将禽硅基嗣 或聚礁氧烷键段引入到聚酰!|；匣胺主链结构中可使聚酰亚胺的加工性大为改饕，并被赋予良好 的溶解性、透气性、抗冲击性、耐紫外光瞧及在富氡环境中的抗降解性。在聚酰醒胺骨桨绍 构中引入硅氧烷链段或含硅撼团还可增强聚酰亚胺与无机材料，包括金属材料等基材的粘接 往。番簦薅j其侥舞的耱籀经髓可锾蔷多种聚蘸驻胶缡米杂纯材料。奉论文制备了一系列含硅聚 酰亚胺和含硅聚酰皿胺／钛酸钡纳米复合薄膜。并对其结构和性能进行了研究。另外，还对 窘硅黎酰亚黢／奔孔二氧化戆复台薄膜瓣喜l器、缝{鸯窥性虢遴辛亍了磅究。 本文首先合成了双(3，4国E二甲酸酐)二甲基硅烷(SIDA)单体，利用其部分取代均苯四 早酸酪(PMDA)与4，4i二氨基二苯醚(4，4-ODA)共聚褥到共聚嚣!含硅浆醛耍黢。共聚型 含硅浆酰亚胺的规接性、玻璃化转变温度低于不古硅的PMDA／4，4-0DA聚酰亚胺：含硅聚 醮亚胺的热稳定性隧SIDA与PMDA摩尔比的增女B蕊下降。但隧蛰SIDA／PMDA／4，4r-ODA 聚酰溉胺中含硅单体阁量的增加，聚酰亚胺薄膜在紫外一可见光区的透光范围增加。 出SIDA分别与4。4，_ODA和3，4L二氨纂二苯醚(3,4-ODA)反应制各T SIDA／4，4‘-ODA 和SIDA／3,4-ODA两种聚酰驻胺薄膜。对两种聚酰疆胺进行比较研究的结果表明，由SIDA 与3,4-ODA制各的聚酰皿胺呈现较高的柔韧性和在紫外．可见光区的透光性；而SIDA与 4，4：ODA割铸翁聚蕺耍胺豹分予链具有较高戆玻璃纯转交温度、热稳定睦和喇性。 SIDA／3，4-ODA聚酰旺胺的线性熟膨胀系数随温度变化的幅度大于SIDA／4，4-ODA聚酰距 茨。 其次，由3,3 7．二甲基-4，4-=氨纂二苯熬甲烷(MMDA)分别与PMDA、SIDA反应制 冬了PMDA／MMDA、SIDA胍MDA秘slD艘}《D^嘎《MDA三穆霹溶性聚酸亚胺。磅究缝 果表明，三种聚酰亚胺的特征粘度在0．4I～0．73 dL幢范围内。在聚酰亚胺主链中引入_二甲 基硅基团可以有效地改善聚激亚胺的溶解性能和在紫外一可见光区的透光性，但玻璃化转变 温度F降。SIDA／MMDA聚酰亚胺在空气中餐现最菊的热分解温度，而SIDA／PMDA／MMDA 聚酰弧胺在氮气中呈现最高的热分解温度。 交SIDA分嗣与4A-双(3．氨蒸苯氯基)二苯黼(mBAPS)蘩{4，4-敢(4一氨蒸苯氧基) 二苯砜(pBAPS)反应制备了两种主链含硅一醚-砜基团的可溶性聚酰亚胺薄膜。由S1DA与 pBAPS反应裁墨的蒙躐亚骏篾半鑫繁台麴，囊SIDA与mBAPS翱篱静聚魏疆薮为花定型聚 合物。无论在空气中还是在氮气中两种聚酰艇胺薄膜都具有很高的热稳定性和抗热氧化性 能。糍醮亚胺分子链中基匿俄萎的交纯怼热稳定性及撬热襞纯性能瓣影囔较，l、。交SIDA与 mBAPS反应制备的聚酰亚胺具有比由SIDA与pBAPS反应制备的聚酰亚胺好的浆性、低温 抗冲击性能、在紫，卜可见光区的透光性和在有极端剂中的溶解性糍。 辩次，制备了slDAq，4-ODA浆酰亚胺／BaTi03、SIDA-4，4LODA聚酰亚胺／BaTi03、 SIDA-pBAPS聚酰亚胺／Bal’i03和SIDA-rffBAPS聚酰亚胺／偶联剂／B aTi魄纳米复台薄膜。 研究结莱表鞠，钛酸钡纳米粒子在聚酰亚胺基体孛的分散并不是檄均匀的，粒子趋向于形成 团聚体。较低钛酸钡含量的复合薄膜与较高钛酸钡含量的复合薄膜相比，在较高纳米钛酸钡 食量懿复台薄膜孛纳张链酸镄粒子爱蘧聚傣分数的裙薅较均匀。磕婉偶联麴燕^裂聚酰亚胶 东南大学博士学位论文和纳米钛酸钡粒子复台体系中著没露明显地改善钛酸钡纳米粒子柱聚酰煦胺中的分散。纳米 东南大学博士学位论文 和纳米钛酸钡粒子复台体系中著没露明显地改善钛酸钡纳米粒子柱聚酰煦胺中的分散。纳米 锰酸镢粒子翔入到含硅蒙酰逆胺基体中可以明显堍改善含硅聚酰艇胶／钛酸钡纳米复台薄膜 的抗热氧化性能，在热氧化分解的初期没有观察到钛酸钡的催化氧化作用。聚酰Ⅱ胺／钛酸 镢纳洙复合薄簇的玻璃纯转变溢度(L)裹于福瘦静本傣黎酰亚胺蘸玻璃纯转变溢度，在 L处的力学内耗值随复合薄膜中钛酸钡含量的增加而减小。 贪电洼麓豹测囊表疆，聚酸亚歉璨：酸镢纳米簸台薄蒺瓣耱靖分电霉熬涎着频率的增招 而呈缓慢下降的趋势；在1MHz频率下，聚酰亚胺／钛酸钡纳米复合薄膜的介质损耗低予相 应的本体聚酸疆黩的套质损耗。复台薄膜的糍对分恕常数隧湿度的增翅