自支撑Zr膜制备及软X射线透过性能研究-光子学报.PDF

第 卷第 期 光 子 学 报 ４０ １ 　 　 　 Ｖｏｌ．４０Ｎｏ．１ 年 月 　　　　　　　　　　　　 ２０１１ １ Ｊａｎｕａｒ２０１１ ＡＣＴＡＰＨＯＴＯＮＩＣＡＳＩＮＩＣＡ ｙ 文章编号： （ ） １００４４２１３２０１１０１０００１４ 自支撑 膜制备及软 射线透过性能研究 Ｚｒ Ｘ 伍和云，吴永刚，王振华，吕刚，凌磊婕，夏子奂，陈乃波 （同济大学 物理系，上海 ２０００９２） 摘 要：软 射线波段滤光膜材料大都为自支撑金属薄膜，实验室环境下自支撑薄膜长期与空气 Ｘ 　 接触表面易氧化，空气中的杂质原子进入自支撑薄膜内部，致使 自支撑膜光学性能大幅下降．５ｎｍ 至 软 射线波段 具有较低的质量吸收系数和较小的密度，在该波段 滤光膜透过率较 ２０ｎｍ Ｘ Ｚｒ Ｚｒ 高 采用脱模剂法制备自支撑 膜，在洁净的浮法玻璃上蒸镀一层 做为脱膜剂，直流磁控溅 ． Ｚｒ ＮａＣｌ 射沉积 膜，脱膜后的到自支撑 膜 为防止薄膜表面氧化及空气中杂质原子进入薄膜内部，在 Ｚｒ Ｚｒ ． 膜两面各直流磁控溅射沉积一层 厚的 或 膜作为保护膜，得到 ／ ／ 、／ ／ 复合 Ｚｒ １０ｎｍ Ｃ Ｓｉ ＣＺｒＣＳｉＺｒＳｉ 膜，测试结果显示 或 膜的引入对于自支撑 膜光学性能基本无影响 Ｃ Ｓｉ Ｚｒ ． 关键词：自支撑薄膜；软 射线；脱模剂；磁控溅射；同步辐射 Ｘ 中图分类号： 文献标识码： ： ／ Ｏ４８４ Ａ 犱狅犻１０．３７８８ ｚｘ０００１ 　　　　 　　　　 ｇ ０ 引言 目前常用的自支撑膜制备方法是在固体抛光表 　 面涂敷或生长脱模剂后沉积薄膜，然后将脱模剂溶 软 射线具有波长短、亮度高、相干性好以及 Ｘ 解得到 自支撑薄膜 常用的溶于水的脱膜剂有 ． 分辨率高等优点，是激光干涉法测量惯性约束核聚 、 、 、甜菜碱等 国外进行自支撑膜研 ＮａＣｌＣｓＩ ＢａＣｌ ． ２ ２ 变产生的高温高密度等离子体电子云密度的理想光