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一种新型等离子体磁控溅射镀膜电源设计-强激光与粒子束.PDF
第 卷第 期 强 激 光 与 粒 子 束 ,
31 4 Vol.31 No.4
年 月 ,
2019 4 HIGH POWERLASERANDPARTICLEBEAMS A r. 2019
p
一种新型等离子体磁控溅射镀膜电源设计*
1 1 1 1 2 1
李 波 , 赵 娟 , 李洪涛 , 叶 超 , 谭巍巍 , 黄 斌 ,
2 1 1 1 1 1
鲁向阳 , 黄宇鹏 , 张 信 , 欧阳艳晶 , 康传会 , 齐卓筠
( , ; , )
1.中国工程物理研究院 流体物理研究所 四川 绵阳 621900 2.北京大学 物理学院 北京 100871
: 。
摘 要 磁控溅射镀膜电源是磁控溅射系统中的关键设备之一 根据铌靶和锡靶溅射处理装置的技术
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要求 研制了一套输出电压 0~800V可调 脉冲宽度 5~200 s可调 频率 0~60Hz可调 在脉冲电流最大幅
μ
, 。
值约 150A的磁控溅射镀膜电源 分别给出了该电源在铌靶负载和锡靶负载下的实验结果 设计上采用高压
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短脉冲预电离一体化高功率双极性脉冲形成电路方法 解决了高功率磁控溅射在重复频率工作下有时不能成
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功溅射粒子 电离时刻不一致 溅射起弧打火靶面中毒 溅射效率低等问题 降低了磁控溅射装置内气体的工作
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气压 实现低气压溅射镀膜 提高了靶材的溅射效率 减小薄膜表面粗糙度 通过大量实验论证 该电源达到了
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理想的溅射效果 满足了指标要求
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关键词 高压预电离 双极性脉冲 低气压溅射 等离子体
中图分类号: 文献标志码: : /
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