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2.4.1 本征半导体 1、简介(以硅为例) 2.7 电性能测量及其应用 1、测量块材的电阻率 双电桥法、电位差计、直流四探针法 2、电阻法分析应用 (1)测量固溶体溶解度曲线 (2)研究合金时效 (3)马氏体转变 (4)疲劳和裂纹扩散 大规模集成电路(VLIC) 集成电路的组成就是大量、但非常微小的晶体管、电容、电阻的组合,应用及其广泛。 大规模集成电路的制造(硅基片) 收音机、手机等各种电器越练越轻巧,就是各种集成电路的应用结果 CPU的散热片 最小的集成电路,用来钞票防伪 2.5 超导电性 一、超导电现象 在一定低温条件下,金属(后来发现氧化物)突然失去电阻的现象 转变温度:超导体电阻降为零的温度。 二、超导体的三个属性 (1)零电阻 (2)迈斯纳效应——完全抗磁性 (3)通量量子化 发展方向:由单质向化合物,由低温向高温,理论仍有缺陷(量子力学也不能解释氧化物超导现象) 表征超导体性质的三个指标 (1)转变温度(实用在液氮温度) (2)临界磁场 (3)临界电流 超导体分为I类和II类 I类有一个临界磁场 II类有两个临界磁场 YBaCuO在电子显微镜下 构成氧化物高温超导体的化学元素昂贵,合成的超导材料脆性大,难以加工成线材,使其应用受到极大的局限 三、BCS理论 电子A 声子 电子B 库珀电子对 电子A 电子B q(声子) 载流子:库柏电子对 巴丁、库柏和施里弗由于提出超导电性的BCS理论获1972年诺贝尔物理学奖,但对于氧化物超导体不能很好的解释,新的理论还有待于新的诺贝尔奖获得者去发现。 BCS理论:电子在晶体中受声子的影响,在低温的情况下,两个电子之间可以通过交换声子而结合形成电子对,使得其由原来的费米子变成波色子,从而由普通导体变成超导体。 超导应用 1、高磁场超导磁体 2、高灵敏度电子器件 绝缘薄膜 超导薄膜 约瑟夫森效应:超导库柏电子对以库柏效应穿越绝缘势垒-超导量子干涉仪,测量磁场变化10-15T * 2.4 半导体 非金属和金属的使用时间几乎和人类文明社会一样长。石器时代和青铜时代都是利用材料的力学性能-硬度和韧性 半导体的应用只有约100年的时间,而最近50年是其应用最为广泛的时期,伴随着人们对半导体的物理性能逐渐深入了解,不同级别的电子计算机被制造出来,人类进入了信息时代。 人类制造的最强大的工具是计算机,人类制造的所有的电子工具(如各种传感器、机器人)都将以电子计算机为核心,即计算机是顶级工具。人类不再直接操作各种工具,而是通过计算机来操作各种工具。 元素半导体介于金属和非金属之间,现在90%的半导体器件的原材料是Si,未来化合物半导体将会有很大发展 晶体管、微电子线路、集成电路、大规模集成电路不断发展,器件越来越小,速度越来越快。 半导体材料由于奇异的导电特性,实现的最重要的两个功能是 整流:电流的单向通过(二极管) 放大:电信号的放大(三极管) 计算机各种功能的实现都以二进制数据的存储和计算为基础,整流和放大是其物理基础 纯度很高(10-10),可控引入杂质,改善电性能。 禁带宽度是半导体的重要指标,标志其对外界因素的敏感程度。 载流子两种 电子:被激发到导带,在电场下,实现导带间迁移 空穴:电子激发到导带后剩下的空位,吸引其他电 子前来补充,实现空穴-导带电子-空穴迁移 本征半导体是指纯净的半导体。 关键词:载流子迁移 元素半导体 化合物半导体 硅的晶体结构 属于面心立方结构 硅晶格是由两个面心立方结构嵌套而成 满 带 例:化合物半导体 CdS 空 带 h? ?Eg=2.42eV 满带中的一个电子受到激发进入空带(导带),这相当于产生了一个带正电的粒子(称为“空穴”) ,电子和空穴总是成对出现的。 空带 满带 空穴下面能级上 的电子可以跃迁 到空穴上来, 这相当于空穴 向下跃迁。 满带上带正电的 空穴向下跃迁也 是形成电流, 这称为空穴导电。 ?Eg 在外电场作用下, ?解? 例,半导体 Cd S激发电子, 光波的波长最大多长? 2、半导体载流子数量的计算 与金属、离子导体不同,半导体的载流子数量随温度变化较大 取价带顶能量为零 Z(E) O Eg E 两种载流子的状态密度分别为 电子 空穴 量子力学证明,电子和空穴的能量分别为 电子总数 本征硅中费密能级位于禁带中,而且
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