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第26 卷 第3 期 无 机 材 料 学 报 Vol. 26 No. 3
2011 年3 月 Journal of Inorganic Materials Mar. , 2011
文章编号: 1000-324X(2011)03-0281-04 DOI: 10.3724/SP.J.1077.2011.00281
沉积激光能量对 CuAlO2 薄膜光学性质的影响
1,2 1,2 1,2 1,2 1,2 1,2 1,2
邓赞红 , 方晓东 , 陶汝华 , 董伟伟 , 周 曙 , 孟 钢 , 邵景珍
(1. 中国科学院 安徽光学精密机械研究所 安徽光子器件与材料省级实验室, 合肥 230031; 2. 中国科学院 新型薄
膜太阳电池重点实验室, 合肥230031)
摘 要: 采用脉冲激光沉积法制备了CuAlO2 薄膜. 在沉积激光能量100~180mJ 范围内原位沉积的薄膜并在N2 气氛
下 900 ℃异位退火 1h 处理后, 所有薄膜均为高度c 轴取向的单相 CuAlO2 薄膜, 晶粒尺寸~49nm. 随着沉积激光能
量的增大, 薄膜厚度增加, 表面颗粒尺寸明显增大, 在可见光区的平均透射率下降. 室温光致发光谱发现, CuAlO2
薄膜在350nm 附近有一个自由激子复合发光峰, 说明在CuAlO2 宽带隙半导体中存在直接带间跃迁, 这对于该材料
在光电子领域如发光二极管的应用具有重要意义.
关 键 词: 脉冲激光沉积; CuAlO2 薄膜; 光学带隙; 室温光致发光谱
中图分类号: TQ174 文献标识码: A
Effect of Deposition Laser Energy on the Optical
Properties of CuAlO Films
2
DENG Zan-Hong1,2, FANG Xiao-Dong1,2, TAO Ru-Hua1,2, DONG Wei-Wei1,2,
ZHOU Shu1,2, MENG Gang1,2, SHAO Jing-Zhen1,2
(1. Anhui Provincial Key Lab of Photonics Devices and Materials, Anhui Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese
Academy of Sciences, Hefei 230031, China; 2. Key Lab of New Thin Film Solar Cells, Chinese Academy of Sciences, Hefei
230031, C
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