现代光学前沿新兴分支学科——二元光学技术与应用讲义.ppt

5.1 深蚀刻二元光学元件特性 探索性的系统研究了深蚀刻二元光学元件的衍射特性； 提出了深蚀刻二元光学元件具有焦距缩短效应、高相对孔径、高能量密度、高深宽比的特性； * 5.1 深蚀刻二元光学元件特性 * 5.1 深蚀刻二元光学元件特性 * 5.2 深蚀刻二元光学元件制作误差分析 提出了4 阶二元光学元件衍射效率与制作误差之间的解析式； 创建了“深蚀刻二元光学元件制作误差模拟软件”； 建立了深蚀刻二元光学元件制作误差的经验公式； * 5.2 深蚀刻二元光学元件制作误差分析 * 5.2 深蚀刻二元光学元件制作误差分析 * 5.3 深蚀刻二元光学元件应用 利用深蚀刻理论和技术，在国内首次设计并制作出用于准分子激光照明系统中、具有结构紧凑、光束均匀性好等优良特性的深蚀刻二元光学均匀器。 深蚀刻二元光学器件的研究工作目前已处于国内领先水平。 * 5.3 深蚀刻二元光学元件应用 * 5.3 深蚀刻二元光学元件应用 * 6. 结束语 二元光学及微光学技术是一门新兴的综合性高技术，具有光学元件少，尺寸小(直径可在100mm左右)、制作成本低并能大量生产等优点。 * 6. 结束语 有广阔的应用前景:例如它可用于 红外照相机、内窥镜中; 激光打印机的扫描光学元件 光盘唱机读出光学头 通讯网络的传感器(聚焦元件)、连接器； * 6. 结束语 微透镜列阵机器人工视觉及微透镜列阵导弹制导传感器； 眼球人工晶体替代元件，具有兼顾远近视场图象功能； 光计算的大容量互连。 * 6. 结束语 微光学的发展，还使光学元件的尺寸进入微米、亚微米级领域，使人的认识进一步深入，使传统光学及其技术发生巨大变革，这对光学领域特别是信息领域的发展将产生难以估量的作用。 三微技术（微电子、微光学、微机械）的结合将改变人类社会的生产、生活的观念和方式。 * * Thank you! * 07/16/96 * ## * 4.2 像差较正 ——白内障病人眼球晶状体替代元件 3M公司的工作人员已对患白内障病人设计了替换眼球晶状体的元件，但此种手术通常使用的是普通透镜，它们只能使病人看见较近或较远的物体。 * 4.2 像差较正 ——白内障病人眼球晶状体替代元件 为解决这个问题，3M 公司传感器物理学家 J.Futhey 等在普通透镜表面刻蚀二元光学元件，当光入射人眼时，二元光学元件约把一半光线聚焦到视网膜表面，另一半聚焦到视网膜内。眼睛和大脑能把注意力集中在某个焦点而忽视另一个焦点，从而提供远近图象。用这种方法，二元光学透镜现已植入 50 多个国家的几千名病人的眼中。 * 4.2 像差较正 ——折衍混合消色差 利用折射和衍射正好相反的色散特点，将二元光学技术用在折衍混合系统设计中，消除系统色差(如下图所示)。 * 4.2 像差较正 ——折衍混合消色差 * 4.3 消反射与导膜共振滤波  ——消反射的衍射元件 为了抑制光学表面的菲涅尔反射，通常采用镀膜方法，即在光学表面镀一层具有梯度射射率的薄膜，使得两种介质界面的光学性质近似的连续变化，从而获得极低的反射率。由于镀膜中常用的化学萃取和共蒸发方法都要用到各向异性材料，因而不可避免的带来热学和力学性能不均匀等问题，使得高质量镀膜难以成功的制作 。 * 4.3 消反射与导膜共振滤波  ——消反射的衍射元件 二元光学解决途径：在衍射光学元件表面刻蚀高空间频率的连续位相光栅结构。由于光栅的空间周期极小，使得只有零级衍射光在入射介质和衬底中传播，如同处于折射率呈梯度分布的有效介质中一样，从而达到消反射的功效。 通过合理的匹配光栅周期，选择入射光波长等参数来设计消反射结构元件，可以获得在宽波段和广角度范围内极低的反射率，从而有效地抑制光学表面的菲涅尔反射。 * 4.3 消反射与导膜共振滤波 ——导膜共振滤波器 平面电介质波导光栅具有导膜共振特性，已在光电开关、光折变可调谐滤波器、窄线宽偏振激光等方面获得实际的应用： 任意控制并压窄线宽的不变或可调谐的光谱滤波器 高效的低能开关转换元件 集成光学中窄波段光谱选择反射镜 体光学系统中激光线宽压窄 高精度传感器 * 4.4 光互连 光学互连元件是将一束激光分裂成一维或二维光束列阵的衍射光学元件。选择不同的元件参数即互连程度 (与激光源相连的探测器数目) 和劈裂比(各劈裂开光束之间的相对能量比)，可设计出不同功能的光互连元件。通常有形成均匀强度分布的光互连元件(例如，多光束发生器、多光束照明器) 和形成非均匀强度分布的光互连元件(例 如，高斯扇形展开分束器)。 * 4.4 光互连 目前光互连元件已广泛的应用于光学计算和平行处理，集成光学，光电开关网络，以