用于太阳能电池的多晶硅激光表面织构化研究.pdf

47, 0 11401 (20 10) 2010 中国激光杂志社 doi: 10.3788/lop47.011401 于太阳能电池的多晶硅激光表面织构化研究 王学孟 赵汝强 沈 辉 梁宗存 ( 中山大学物理与工程技术学院， 广东 广州 510006) 摘要 介绍了利用激光制备多晶硅表面织构的研究结果。采用激光在硅片表面刻蚀，然后利用化学方法去除残渣和 损伤，制得均匀的表面陷光结构。通过扫描电子显微镜，Hitachi U-4 100 分光光度计和Semilab WT2000 少子寿命仪 分析了表面织构化后硅片的表面形貌、反射率和少子寿命。通过调节激光和化学腐蚀参数得到很好的陷光效果，表 面反射率最低可以降到约10%。但是激光刻蚀对硅片性能仍有一定损伤，有待改进。激光表面织构为多晶硅的减反 射处理提供有效的途径。 关键词 激光材料处理；表面织构；表面刻蚀减反射；多晶硅太阳能电池 中图分类号 TN249 OCIS 140.3390 350.6050 160.4670 文献标识码 A Laser Surface Texturation of Multicrystalline Silicon for Solar Cell Wang Xuemeng Zhao Ruqiang Shen Hui Liang Zongcun (School of Phys ics and Engy neering, Sun Yat-sen University, Guangzhou, Guangdong 510006, China) Abstract Surface texturation of multicrystalline using laser etching is studied. Symmetrical microstructure for light trapping was made by using laser etching followed by chemical post-processing. The surface morphology, reflection rate and life time of minority carrier in multicrystalline silicon wafer were measured and analyzed. The lowest reflection of the processed silicon surface can be reduced to about 10%. There are unsolved problems, such as laser-induced damage and long processing time, but this technology has provided an efficient way to improve performance of multicrystalline solar cell. Key words laser material processing; surface texturation; surface etching for anti-reflection; multicrystalline silicon solar cell 1 引言 2008年世界太阳能电池产量达到7.9 GW，其 多晶硅太阳能电池占47.7%[1]并且产量仍在稳步上升。 多晶硅表面织构化能够有效降 表面反射率、提高电池短路电流。但是由于多晶硅含有大量晶粒和晶界， 且晶粒晶向各不相同，工业生产多晶硅太阳能电池缺少有效的表面织构方法。因此多晶硅表面织构化的研 [2] [3] 究成为当前国内外的研究热点。目前已经出现的多晶硅表面织构技术主要有机械刻槽 、激光 、等离子 [4] [5] 蚀刻 和各向同性