无机材料分析与表征透射电镜1of3.pdfVIP

第六章 透射电子显微分析 顾 辉 6.1 引言——电子显微学发展简介 电子显微学是在电子的波动性的发现和光学显微镜的实践上开始的。过去的 世纪的前四分之一是科学历史上最激动人心的阶段，量子力学和相对论一个又一 个革命性新概念的提出不断的改变人类对世界的认识。这其中在 1925 年法国人 德布罗意提出的电子象光一样具有波动性的概念是其中最具有革命性的概念。 1927 年的第一次电子衍射实验不但证实了电子的波动性并且给理论家和实验家 各自带来了诺贝尔奖，也为利用波动性的电子像光波一样来观察物体的变化提供 了可能。1932 年 Ruska 第一次设计出了电子显微镜并于五十多年后得到了他自 己的诺贝尔奖。 第一台真实的电镜是 1936 年在英国造出的，1939 年德国西门子造出第一台 3 4 成功的商业电镜，使电镜分辨率达到10埃（1纳米），远远超过光学显微镜（10 -10 2 埃）和X射线显微镜（10 埃）。这首先归功于作为波的电子具有比可见光和X射线 短得多的波长。电子的波长与其移动速度有关（与速度倒数的平方根成正比）。 因此电镜的设计离不开比较高的加速电压。早期的电镜加速电压在100千伏，后 来高压性能的提高使一般电镜大多在200-400千伏之间，而（超）高压电镜则在 一百至三百万伏。目前的电镜大都以200和300千伏为主。 电镜应用的第一个高潮是在 20 世纪 60 年代。金属中的位错首次在 1956 年 被英国剑桥大学 Hirsch 组成功的用电镜观察，这开创了金属学和材料学的一个 新纪元。位错成了理解金属材料微结构与性能关系的主要研究热点。Hirsch 的 学生 Howie 和 Whelen 随后提出了观察和解析位错等晶体缺陷的“衍射衬度”理 论，这使电子显微学第一次成为一个独立的从理论到实践均有建树的学科。整个 70年代以比利时安特卫普Amelinks为代表的科学家在大量电镜工作的基础上发 展出有完整理论和模型的晶体缺陷学科，为固体物理和金属学的进步作出了极大 的贡献。 70 年代后期和整个 80 年代是电子显微学的又一成功发展阶段。这一时期高 分辨电子显微学从理论到实践都达到了高峰。1975 年美国亚利桑那州立大学的 澳洲人Cowley出版了《衍射物理》一书，奠定了 “位相衬度”理论的基础。这 使晶体结构中原子的电镜成像得到了解释，并推动了高分辨原子像的直接观察以 及提供了电子显微镜提高分辨率的技术基础。如果说衍衬理论还只能用于观察原 子结构的变化产生的缺陷，位相衬度为基础的高分辨成像理论就将研究的对象带 回了原子的排列本身。这就将电子显微学完全溶入固体研究和方法的体系之中， 成为固体材料研究的不可缺少的方法、手段之一，加深了材料研究的基础性并拓 展了其应用性，使电子显微学可被应用于不同层次、不同尺度的研究工作中去。 随着对电子显微研究方法之认识的不断提高，70 年代末以来电镜的研究者和 使用者在实践中发现电镜的研究方法不只限于成像的范围。微衍射、能谱、能损 - 1 - 谱、会聚束衍射等在倒易空间和能量空间对材料样品进行分析的手段都各自发展 到比较成熟的境界。分析电子显微学就逐渐成为了与以成像为目的常规意义上的 透射电子显微学分庭抗礼的独立分科，并形成二者互相补充的格局。这尤其对电 镜在材料研究的作用有本质性的提高，使得电镜成为材料基础研究的最终解决手 段之一。这尤其可在新时期的纳米材料研究中体现出来。 进入90年代以来，电镜学科在成像、分析、仪器与方法上都有实质性进展。 定量化是普遍潮流，成像分辨率进入了原子范围，分析的微小区域达到亚纳米以 下，能损谱仪发展到并列式探头并趋向二维探头，电镜设计全部采用了兼顾成像 与分析能力的对称性设计。其中最先进的两个方面，一是电子全息术的快速发展， 另一是电子能损谱与成像功能的结合。前者推动了多个成像技术，如高分辨像、 费涅尔衬度像和洛伦兹像的新发展和应用前景，后者则最大限度地体现出分析功 能的定量性、全面性和三维性的优势。 21 世纪电子显微