薄膜的物理气相沉积-溅射法.pdfVIP

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2019-10-30 发布于湖北
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薄膜的物理气相沉积-溅射法.pdf

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仅供学生学习参考，请勿扩散 1/25 仅供学生学习参考，请勿扩散薄膜材料与技术，授课教师：张卫华 2007 1/25 薄膜材料与技术薄薄膜膜材材料料与与技技术术薄膜材料与技术薄薄膜膜材材料料与与技技术术第三章薄膜的物理气相沉积（II）－溅射法、PVD 第第三三章章薄薄膜膜的的物物理理气气相相沉沉积积（（IIII））－－溅溅射射法法、、PPVVDD • 物理气相沉积（PVD）：利用荷能离子轰击溅射等物物理理气气相相沉沉积积（（PPVVDD））：：利利用用荷荷能能离离子子轰轰击击溅溅射射等等物理过程实现物质从源物质到薄膜的可控原子转移过物物理理过过程程实实现现物物质质从从源源物物质质到到薄薄膜膜的的可可控控原原子子转转移移过过程。程程。。 1. 离子在电场中加速，荷能 11.. 离离子子在在电电场场中中加加速速，，荷荷能能 2. 荷能离子撞击靶材表面 22.. 荷荷能能离离子子撞撞击击靶靶材材表表面面 3. 靶材表面原子溅射，沿一定方向飞行到衬底 33.. 靶靶材材表表面面原原子子溅溅射射，，沿沿一一定定方方向向飞飞行行到到衬衬底底 4. 形核生长沉积薄膜 44.. 形形核核生生长长沉沉积积薄薄膜膜仅供学生学习参考，请勿扩散 2/25 仅供学生学习参考，请勿扩散薄膜材料与技术，授课教师：张卫华 2007 2/25 本章主要内容本本章章主主要要内内容容本章主要内容本本章章主主要要内内容容 PVD基本方法：溅射法 PPVVDD基基本本方方法法：：溅溅射射法法一、气体放电现象与等离子体一一、、气气体体放放电电现现象象与与等等离离子子体体气体放电现象  气气体体放放电电现现象象辉光放电及等离子鞘层  辉辉光光放放电电及及等等离离子子鞘鞘层层辉光放电中电子的碰撞  辉辉光光放放电电中中电电子子的的碰碰撞撞二、物质的溅射现象二二、、物物质质的的溅溅射射现现象象  溅射产额溅溅射射产产额额  合金的溅射和沉积合合金金的的溅溅射射和和沉沉积积三、溅射沉积装置（直流、射频、磁控、反应、中频及脉冲、三三、、溅溅射射沉沉积积装装置置（（直直流流、、射射频频、、磁磁控控、、反反应应、、中中频频及及脉脉冲冲、、偏压、离子束溅射沉积）偏偏压压、、离离子子束束溅溅射射沉沉积积））四、其他PVD：离子镀、反应蒸发沉积、离子束辅助沉积、四四、、其其他他PPVVDD：：离离子子镀镀、、反反应应蒸蒸发发沉沉积积、、离离子子束束辅辅助助沉沉积积、、离子团束沉积、离子沉积离离子子团团束束沉沉积积、、离离子子沉沉积积仅供学生学习参考，请勿扩散 3/25 仅供学生学习参考，请勿扩散薄膜材料与技术，授课教师：张卫华 2007 3/25 3.1 气体放电现象与等离子体 33..11 气气体体放放电电现现象象与与等等离离子子体体