Q_HOIM 001-2019铬版企业标准.pdf

Q/HOIM 湖南普照信息材料有限公司企业标准 Q/HOIM 001—20 19 铬 版 (Chrome Mask Blank) 2019-08-18 发布 2019-8-18 实施 湖南普照信息材料有限公司 发布 Q/HOIM 001—20 19 前 言 本标准的技术要求是参照 SEMI P1-1101 《硬面光掩模版基板规格》、SEMI P2-0298 《用于硬面光 掩模版铬薄膜的说明书》和 SEMI D26-1000 《用于平板显示方面的大面积掩模版规格(北美)》制定的， 标准的格式和编写要求符合 GB/T1.1—2009 《标准化工作导则第 1 部分：标准的结构和编写》、GB/T 20001.10-2014 《标准编写规则第 10 部分：产品标准》、GB/T 20001.5-2017 《标准编写规则第 5 部 分：规范标准》和相关强制性国家标准的要求。 本标准由湖南普照信息材料有限公司提出。 本标准由湖南普照信息材料有限公司技术部负责起草。 本标准主要起草人：吴云峰 周志刚 陈社城 李伟 本标准于 2019 年 8 月 17 日修订，8 月 18 日正式发布。 I Q/HOIM 001—20 19 铬 版 1 范围 本标准规定了铬版的定义、型号命名、技术要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存 等内容。 本标准适用于半导体器件(分立器件和集成电路)及平板显示器件用匀胶铬版的生产和检验。 2 规范性引用文件 标准所包含的条文，通过在本标准中的引用而成为本标准的条文。凡是注日期的引用文件，其随后 所有的修改单（不包括勘误的内容）或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各 方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。 SJ/T10858-1996 玻璃及铬版表面平整度的测试方法 SJ/T10859-1996 铬版铬膜和胶膜厚度的测量方法 SJ/T10860-1996 铬版铬膜表面反射率的测量方法 SJ/T10861-1996 铬版光密度的测量方法 SJ/T10584-1994 微电子学光掩蔽技术术语 GB/T15870—1995 硬面光掩模用铬薄膜 GB/T15871—1995 硬面光掩模基板 GB/T191—2008 包装储运图示标志 GB/11614—2009 平板玻璃 国家技术监督局53 号（1990）《中华人民共和国标准化法实施条例》 3 术语及定义 SJ/T10584 确立的以及下列术语和定义适用于本标准。 3.1 均匀性 同一块版内最大值与最小值之差除以最大值与最小值之和乘以百分之百，即 max －min ± × 100% 。 max ＋min 3.2 一致性 同一批中不同块版的最大平均值与最小平均值之差除以基准值乘以百分之百，即 max －min