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《模拟电子技术》 保定电院 电子教研室 复习 1、二极管的结构与符号分别是什么? 2、二极管的两个引出电极分别叫什么? 3、二极管的工作区有哪些? 4、二极管的主要参数都有什么? 5、二极管的典型应用有哪些? 6、选用二极管的原则是什么? 1.3 半导体三极管 1.三极管的结构和符号 各种三极管外形不同,但其内部基本结构相同,都是在一块半导体晶片上制造出三个掺杂区,形成两个PN结,使其表现出不同于单个PN结的特性,再引出三个电极、封装。 (1)结构及符号 ① 三层结构(三个区):发射区、基区、集电区 ② 三个电极:集电极C 、基极B、发射极E ③ 两个PN结:发射结、 集电结 (3)常见外形 三极管的型号 3.三极管的电流放大作用 (1)三极管的放大条件 为了使三极管能正常放大电流信号,除满足三极管工艺要求外,还需满足一定的内部条件:发射结正向偏置,集电结反向偏置。 若是NPN型三极管,为满足此条件,三个电极电位关系为UCUBUE。 若是PNP型三极管,为满足此条件,三个电极电位关系为UEUBUC。 (2)三极管内电流分配关系 4.三极管输入、输出特性曲线 (1)输入特性曲线 (2)输出特性曲线 小结 1、三极管的结构、符号。 ★ 2、三极管内电流分配关系。 ★ 3、三极管的输入、输出特性曲线。★ ★ 4、三极管输出特性曲线中的三个工作区。 ★ * 1.3 半导体三极管(1) 集电区 基区 发射区 集电结 发射结 N P N C B E 集电区 基区 发射区 集电结 发射结 P N P C B E NPN型三极管 PNP型三极管 C B E C B E (2)制作工艺特点 ① 发射区的掺杂浓度最高,便于发射结正偏时发射大量的载流子; ② 基区很薄,而且掺杂浓度比发射区和集电区要低的多; ③ 集电结面积较大,便于吸收载流子。 2.分类 ① 依据制造材料的不同:锗管、硅管。 ② 依据三极管内部基本结构:NPN型、PNP型。 ③ 依据工作频率不同:高频管和低频管。 ④ 依据用途的不同:普通放大三极管、开关三极管。 ⑤ 依据功率不同:小功率管(耗散功率1W)和大功率管(耗散功率≥1W) ① IE=IC+IB → ③ IC=βIB ★ β 称为电流放大系数 ② IB/μA IC/mA IE/mA Ic/ IB 0 20 30 40 50 60 ≈0 ≈0 0 1.4 1.42 70 2.3 2.33 76 3.2 3.24 80 4 4.05 80 4.7 4.76 78 三极管各极电流分配表 Rb RC VCC UB UC UE IB IC IE 可见:三极管的输入特性与二极管的正向伏安特性类似。 IB/ μA UBE/ V 0 UCE=0V UCE≥1V IC IB=0 IB=20 μA 40 60 80 UCE ② 饱和区: 特点:不满足IC=βIB关系,这时IC=ICS,失去电流放大特性。 条件:发射结正偏,集电结正偏。 ③ 截止区: 特点:IB≤0,IC=ICEO≈0,无电流放大特性。 条件:发射结反偏,集电结反偏。 ① 放大区: 特点:满足 关系,与UCE无关, 表现出电流放大特性。 条件:发射结正偏,集电结反偏。 饱和区 放大区 截止区 * * *
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