工业硅化学分析方法 第4部分:杂质元素含量的测定 ICP-AES.docVIP

工业硅化学分析方法 第4部分:杂质元素含量的测定 ICP-AES.doc

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GB/T 14849.4—20XX PAGE 8 ICS FORMTEXT 77.120.10 FORMTEXT H 12 中华人民共和国国家标准 GB/T FORMTEXT 14849.4— FORMTEXT 20XX FORMTEXT 代替GB/T 14849.4—2008 FORMTEXT 工业硅化学分析方法 第4部分:杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 FORMTEXT Methods for chemical analysis of silicon metal— Part 4:Determination of impurity contents— Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method FORMTEXT 点击此处添加与国际标准一致性程度的标识 FORMDROPDOWN FORMTEXT (本稿完成日期:2013.4.11) FORMTEXT 201× - FORMTEXT XX - FORMTEXT XX发布 FORMTEXT 201× - FORMTEXT XX - FORMTEXT XX实施 GB/T 14849.4—20XX PAGE I 前言 GB/T 14849《工业硅化学分析方法》分为六部分: 第1部分:铁含量的测定 1,10-二氮杂菲分光光度法; 第2部分:铝含量的测定 铬天青-S分光光度法; 第3部分:钙含量的测定 火焰原子吸收光谱法、偶氮氯膦Ⅰ分光光度法; 第4部分:杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱; 第5部分:杂质元素含量的测定 X射线荧光光谱法; 第6部分:碳含量的测定 红外吸收法; 第7部分:磷含量的测定 钼蓝分光光度法; 第8部分:铜含量的测定 PADAP分光光度法; 第9部分:钛含量的测定 二安替比林甲烷分光光度法。 本部分为第4部分。 本部分是对GB/T 14849.4-2008《工业硅化学分析方法 第4部分:电感耦合等离子体发射光谱法测定元素含量》的修订 本部分与GB/T14849.4-2008相比,主要有如下变动: 增加了铜、铬、钒、镁、钴、磷、钾、钠、铅、锌、硼的检测。 本部分按照GB/T 1.1-2009给出的规则起草。 本部分由中国有色金属标准化委员会归口。 本部分负责起草单位:昆明冶金研究院 、XXXX 、XXXX 本部分参加起草单位: 本部分主要起草人: 工业硅化学分析方法 第4部分:杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 范围 本标准规硅中铝、钙、铁、锰、钛、镍、铜、铬、钒、镁、钴、磷、钾、钠、铅、锌、硼含量的测定方法。 本方法适用于工业硅中铝、钙、铁、锰、钛、镍、铜、铬、钒、镁、钴、磷、钾、钠、铅、锌、硼含量的测定,测定范围见表1: 元素 质量分数% 元素 质量分数% 铜 0.001~0.50 磷 0.001~0.50 铬 0.001~0.50 铅 0.001~0.50 钒 0.0005~0.20 锌 0.001~0.50 镁 0.001~0.50 钾 0.001~0.50 钴 0.0001~0.20 钠 0.001~0.50 铝 0.020~0.50 铁 0.020~1.00 钙 0.020~1.00 锰 0.0050~0.50 钛 0.0050~0.10 镍 0.0050~0.50 硼 0.0005~0.20 规范性引用文件 下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅所注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。 GB/T 8170-2008 数值修约规则与极限数值的表示和判定 方法提要 试样用氢氟酸、硝酸溶解,高氯酸冒烟除去硅、氟等,残渣用盐酸溶解。试样溶液引入电感耦合等离子体光谱仪,在选定的最佳测定条件下,测量试样中铝、钙、铁、锰、钛、镍、铜、铅、锌、镉、钒、磷、镁、钾、钠、铬、硼含量。 试剂 高氯酸(ρ 1.67 g/mL),优级纯。 氢氟酸(ρ 1.14 g/mL),优级纯。 硝酸(1+1),优级纯。 盐酸(1+1),优级纯。 标准贮存溶液:各分析元素标准贮存溶液的配制见附录A,也可使用有证系列国家标准物质(溶 液)。 标准溶液 配制原则:互有化学干扰,产生沉淀及互有光谱干扰的元素应分组配制。 将标准贮存溶液(3.5)稀释为100μg/mL,并与标准贮存溶液保持一致的酸度(用时稀释)。 将标准贮存溶液(3.5)稀释为10μg/mL,并与标准贮存溶液保持一致的酸度(用时稀释)。 仪器 电感耦合等离子体发射光谱仪。 光源:等离子体光源,使用功率

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