材料气相制备化学CVD部分.ppt

* 金刚石膜光学应用 金刚石膜的光学应用前景主要得益于其优异广谱透过性能(从真空紫外( 0.22μm)直至微波(毫米波)和最高热导率,最高硬度和弹性模量,很高的强度,极低热膨胀系数和极佳化学稳定性等优异性能的组合。其主要应用前景是:超音速导弹抗热震、抗沙蚀和抗雨蚀的红外光学窗口;高功率工业CO2 激光窗口;磁约束核聚变(托卡马克) 装置高功率微波(Gryrotron)窗口和卫星光学窗口。特别是在高超音速条件下,或在超音速和存在沙蚀和雨蚀的条件下,常用的红外光学窗口材料,如ZnS、MgF2、Al2O3 (蓝宝石) 、MgAl2O4 和AlON等都难以胜任,金刚石窗口将成为终极的选择。 能够用作光学窗口的金刚石膜称之为光学级金刚石膜。这一名词最早出现在1995年的ADC’95会议上,专用于和工具级(黑色,不透明)金刚石膜相区别。光学级金刚石膜是一类质量非常高的金刚石膜,如图3所示, 工具级金刚石膜是黑色的, 不透明, 而光学级金刚石膜是白色(无色)透明的。抛光的金刚石膜不仅光学性能和最高质量(宝石级)天然IIa型金刚石单晶没有区别,而且其热导率和其它物理化学性能也和天然IIa型金刚石单晶相近。目前唯一的差别是力学性能,光学级金刚石膜的断裂强度仅为300～700MPa,而天然IIa型金刚石单晶的断裂强度高达217 GPa,差不多低一个数量级。金刚石膜中的晶界和柱状晶生长特征是造成强度较低的主要原因。但光学级金刚石膜的断裂强度仍然高于绝大多数陶瓷材料,明显高于常用的红外光学材料。 * * 大面积光学级金刚石膜的制备和加工都是一个挑战性难题。目前国内外仍然主要少数研究单位具有这个能力。国外制备光学级金刚石膜大都采用高功率微波等离子体方法,而国内则是采用高功率DCArc Plasma Jet方法,这两者都能提供光学级金刚石膜沉积所要求的高等离子体密度,以产生极高的原子氢浓度(比热丝CVD产生的原子氢浓度高3～4个数量级) 。目前国外采用的微波等离子体设备功率高达60～100 kW。目前光学级金刚石膜的水平为:最大面积:平板窗口: 150 mm,球罩: 60～100 mm; 厚度:大于115 mm; 加工水平: R a′ 2 nm, 不平行度:小于一个干涉环(632 nm) ,不平面度小于10μm, 成像质量在衍射极限之内。完全满足红外光学窗口应用要求。国内采用的DC Arc Plasma Jet功率在30～60kW (号称100kW) ,最大沉积面积120 mm, 沉积速率20 ～30 μm /h。目前制备光学级金刚石膜面积60 mm (正在研制120 mm光学级金刚石膜) , 厚度大于1 mm。已经完成其光学、力学、热学、微波介电电损耗、抗热震、抗氧化、抗沙蚀、以及抗激光损伤等性能表征研究。已经达到的性能已可全面满足光学窗口应用要求。但在沉积面积和光学质量(主要在紫外和近紫外的可见部分)方面与国外采用高功率微波等离子体CVD制备的光学级金刚石膜仍有一定的差距。此外,由于缺乏金刚石膜光学精密加工手段,目前的60 mm光学窗口的位形精度(不平行度和不平面度)达不到光学窗口应用要求。目前国内的微波等离子体CVD设备功率大都在5 kW左右的水平,如用于光学级金刚石膜沉积,生长速率太低( 1 μm /h) , 且沉积面积顶多只能达到2 英寸( 50 mm) ,无法达到实用水平(沉积一块厚度大于1mm,尺寸仅为50 mm 的光学级金刚石膜要1000 h以上。热丝CVD由于活化温度低,不能用于光学级金刚石膜的沉积。值得指出的是我国的DC Arc Plas2ma Jet技术由于沉积速率很高,加上采用了独特的半封闭式气体循环技术,使氢气和氩气得到充分利用,因此制备成本很低,大约只相当于国外产品的20%～10%。我国目前仍然是国内外采用高功率DC ArcPlasma Jet,在气体循环状态下制备光学级金刚石膜的唯一成功案例。在国外有一定的影响。目前这一技术已经应用国内工具级金刚石膜的工业化生产。目前的产值已接近千万,产品全部销往欧美。 * 金刚石膜热学应用 金刚石的热导率是所有已知物质中最高的, 其室温热导率高达20 W / ( cm·K) , 是铜热导率的5倍。而电阻率却高达1016 Ω·cm,是典型的绝缘体。因此,金刚石是最理想的热沉材料。高质量的金刚石膜(如光学级金刚石膜)的热导率与最高质量的天然Ⅱa型金刚石单晶相当。金刚石膜的热导率与金刚石膜的品质(用Raman谱评价) ,晶粒大小(膜厚) ,以及膜中所含杂质(主要是氮)等因素有关。一般把适合用作热沉(Heat sink)的金刚石膜称之为热沉级(Thermal Grade)金刚石膜。热沉级金刚石膜的热导率范围一般在8～20W / ( cm·K) ,因此可以认为热沉级金刚石膜是质量介于工具级和光学级