化学刻蚀的光学元件面形修复_图文.doc

第１５卷第７期 ２００７年７月 光学精密工程 ＯｐｔｉｃｓａｎｄＰｒｅｃｉｓｉｏｎＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｖ０１．１５Ｎｏ．７ Ｊｕｌ．２００７ 文章编号 １００４—９２４Ｘ（２００７）０７一０９９７一０５ 化学刻蚀的光学元件面形修复 项 震１，侯晶１’２，聂传继１，许乔２，张清华２，王健２，李瑞洁２ （１．浙江大学现代光学仪器国家重点实验室，浙江杭州３１００２７； ２．成都精密光学工程研究中心，四川成都６１００４１） 摘要：采用化学加工方法对光学元器件进行面形加工，可以避免传统的抛光工艺带来的亚表面缺陷和表面污染。实验中利用Ｍａｒａｎｇｏｎｉ界面效应有效控制化学液的驻留时间和驻留面积，并通过数控系统实现编程控制加工，进行了面形修复实验，利用轮廓仪测量了加工前后的表面粗糙度。结果表明，采用拼接小去除量多次加工的方法，有效地降低了面形误差，面形值由１．３２＾（ｘ一６３２ｎｍ）减少到ｏ．６６＾，粗糙度基本维持不变。利用此实验装置使基片面形得到修复，避免了传统加工方式带来的亚表面缺陷等问题，有利于强激光系统的使用。 关键词：光学元器件；化学刻蚀；面形修复；Ｍａｒａｎｇｏｎｉ界面效应；粗糙度中图分类号：ＴＮ３０５．７ 文献标识码：Ａ Ｆｏｒｍ ｅｒｒｏｒ ｏｆｏｐｔｉｃａｌｓｕｒｆａｃｅ ｒｅｐａｉｒｅｄｂｙｗｅｔ—ｅｔｃｈｆｉｇｕｒｉｎｇ ＸＩＡＮＧＺｈｅｎｌ，ＨＯＵＪｉｎ９１”，ＮＩＥＣｈｕａｎ—ｊｉｌ，ＸＵＱｉａ０２，ＺＨＡＮＧ Ｑｉｎｇ—ｈｕａ２，ＷＡＮＧＪｉａｎ２，ＬＩＲｕｉｊｉｅ２ （１．Ｓｆ乜抛ＫＰｙＬ口６０ｍ￡ｏ删。厂ＭｂｄＰ埘０切ｚｉｍＺ工，ｚｓｆｒ甜ｍ已咒尬ｆｉｏ孢，Ｚ矗巧ｉ咒ｇＵ碗伽ｒｓ打ｙ，Ｈｎ咒９２矗ｏ“３１００２７，（流ｉ九ｎ； ２．Ｃ＾Ｐ咒ｇｄ“Ｆｉ咒８０夕≠ｉｃＥ咒ｇｉ咒ＰＰｒｉ咒ｇＲｇｓＰ口ｒｃ矗ＣＰ以￡Ｐｒ，Ｃ矗ｅ，ｚｇｄ“６１００４１，Ｃ＾ｉ们盘） Ａｂｓｔｒａｃｔ：Ａｗｅｔ—ｅｔｃｈｆｉｇｕｒｉｎｇｍｅｔｈｏｄｉｓｐｒｅｓｅｎｔｅｄｔｏｒｅｐａｉｒｔｈｅｆｏｒｍ ｅｒｒｏｒ ｏｆｏｐｔｉｃａｌｓｕｒｆａｃｅｔｏａｖｏｉｄ ＴｈｅＭａｒａｎｇｏ ｔｈｅｓｕｂｓｕｒｆａｃｅｄａｍａｇｅａｎｄｓｕｒｆａｃｅｐｏｌｌｕｔｉｏｎｃａｕｓｅｄｂｙｔｒａｄｉｔｉｏｎａｌｐｏｌｉｓｈｉｎｇｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ．ｎｉｅｆｆｅｃｔｉｓｕｓｅｄ ｔｏ ｃｏｎｔｒｏｌｔｈｅｄｗｅｌｌｔｉｍｅａｎｄｄｗｅＵ ａ ａｒｅａ ｏｆｃｈｅｍｉｃａｌｓ０１ｖｅｎｔ，ａｎｄｔｈｅｏｐｔｉｃａｌｓｕｒｆａｃｅｉｓ ｂｅｆｏｒｅ ｏｆ ｒｅｐａｉｒｅｄｂｙｐｒｏｇｒａｍｃｏｎｔｒｏｌｏｆ ｄｉｇｉｔａｌｓｙｓｔｅｍ． ａ Ｔｈｅｓｕｒｆａｃｅｒｏｕｇｈｎｅｓｓｏｆｔｈｅｏｐｔｉｃａｌｓｕｒｆａｃｅ Ｅｘｐｅｒｉｍｅｎｔａｌｒｅｓｕｌｔｓｓｈｏｗｔｈａｔｔｈｅ ａｎｄａｆｔｅｒｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇｉｓｍｅａｓｕｒｅｄｂｙｔｈｅｏｐｔｉｃａｌｓｕｒｆａｃｅａｎｄ ａ ｐｒｏｆｉｌｏｍｅｔｅｒ． ｆｏｒｍ ｅｒｒｏｒ ｃａｎ ｂｅｄｅｃｒｅａｓｅｆｒｏｍ１．２２入（入一６３２ｎｍ）ｔｏＯ．６６入ｂｙｔｈｅｍｅｔｈｏｄｉｎｍａｎｙｗｅｔ—ｅｔｃｈ ｔｅｓｔ．Ｔｈｅｒｅｓｕｌｔｓ ｌｉｔｔｌｅｗｉｐｅｏｆｆｓｕｒｆａｃｅｆｉｇｕｆｉｎｇ，ｂｕｔｔｈｅｏｐｔｉｃｓｕｒｆａｃｅｒｏｕｇｈｎｅｓｓｉｓｉｎｖａｒｉａｂｌｅｉｎ ｃａｎ ａｌｓｏｉｎｄｉｃａｔｅｔｈａｔｔｈｅｍｅｔｈｏｄ ｉｍｐｒｏｖｅｔｈｅｌａｓｅｒｔｈｒｅｓｈｏｌｄｏｆｏｐｔｉｃａｌｅｌｅｍｅｎｔ． ｅｒｒｏｒ Ｋｅｙｗｏｒｄｓ：ｏｐｔｉｃａｌｅｌｅｍｅｎｔ；ｗｅｔ—ｅｔｃｈｆｉｇｕｒｉｎｇ；ｓｕｒｆａｃｅｆｏｒｍ ｎｅＳＳ ｒｅｐａｉｒｉｎｇ；Ｍａｒａｎｇｏｎｉｅｆｆｅｃｔ；ｒｏｕｇｈ 收稿日期：２００６—１０—１０；修订日期：２００７一０３—２１． 基金项目：国家自然科学基金资助项目；“ＮＳＡＦ基金”（Ｎｏ 万方数据　 光学精密工程 第１５卷 １ 引言 目前，光学元件的面形加工技术主要有：传统光学元件加工技术，旋转抛光盘的小工具数控抛光技术，利用磁场来改变散粒磨料粘度的磁流变抛光技术（Ｍａｇｎｅｔｏ—Ｒｈｅｏｌｏｇｉｃａｌ Ｆｉｎｉｓｈｉｎｇ， ＭＲＦ）和离子束抛光技术（Ｉｏｎ－ｂｅａｍＭｉｌｌｉｎｇ）。影响高精度光学元件加工的复杂因素较多，如何提高光学制造技术的可控性，降低制造成本成为国际先进光学制造技术发展的核心。上述抛光技术在实用化中存在着一些原理上的限制，例如，这些抛光技术均依赖于需校准材料的去除率，其加工过程必然是一迭代过程（将工件取下测量，再加工，直到达到要求的精度），批量化成本较高；散粒磨料小工具抛光技术在加工过程中由于存在局部的机械应力，因而无