MOCVD原理及设备简介演示幻灯片.ppt

2020/4/22 1 光伏制造工艺和设备介绍 MOCVD ( Metal Organic Chemical Vapor Deposition ） 金属有机化学气相沉积 2020/4/22 2 1. 什么是 MOCVD ？ ? 一种利用有机金属热分解反应进行气相外延生长薄 膜的化学气相沉积技术。 ? 优点：沉积温度低、不采用卤化物原料，因此 在沉积中不存在刻蚀反应 ; 适合大批量生产。 可直接生长出绒面结构的 ZnO 薄膜，能有效增加入射 光的光程，对太阳光谱起到良好的陷光作用。 缺点 : 许多有机金属化合物蒸气有毒、易燃 ; 反应温度 低，因此有时在气相中就发生反应。 2020/4/22 3 2. 太阳能电池的制备工艺 以玻璃为基底 pin 型太阳能电池 i layer (350nm) 玻璃 SnO2 （ 900nm) P layer (10nm) n layer (30nm) ZnO (80nm) Metal (250 nm) 封装玻璃 引线盒 ZnO 2020/4/22 4 ZnO 的作用 1. 增加反射光在太阳电池中的光 程 ，提高太阳光的收集效率。 2. 减薄本征吸收层，抑制光致衰退， 改善电池的稳定性； 3. 阻挡金属背电极元素如 Ag 或 Al 向 n 层的扩散，改善界面及电 池性能。 2020/4/22 5 ZnO 性能 ? 结构：六方晶体，每个 Zn( 锌 ) 原子与四个 O( 氧 ) 原 子按四面体排布， ZnO 薄膜是由不规则晶粒组成的 多晶薄膜。 ? 半导体特性： N 型宽带隙半导体， E g =3.36eV 导带 禁带 价带 电 子 能 量 导带底 Ec 价带顶 Ev Eg ( 禁带宽度 ) 2020/4/22 6 ZnO 性能 方块电阻： <2 × 10 -3 欧姆厘米 100nm 厚度的透过率与电阻 表面粗糙度： >35% 2020/4/22 7 MOCVD 原理 ? 将金属有机物气化后，利用载气通入反应室，在反 应室内发生化学反应，生成物沉积到衬底上形成薄 膜。 金属有机物： DEZ 载气： Ar ZnO 的制备 2020/4/22 8 ZnO 的制备 ? DEZ ＋ H 2 O → ZnO ① (C 2 H 5 ) 2 Zn+2H 2 O→Zn(OH)+2C 2 H 6 基 底 ② Zn(OH) 2 ZnO H 2 O 基底温度： 180 ~ 200 ℃ 2020/4/22 9 气源 泵组 热阱 沉积室 MOCVD 系统 温度： 250 ～ 300 ℃ 2020/4/22 10 MOCVD 系统原理图 反应气体 ： 1.DEZ (Ar 载气） 2.H2O(Ar 载气） 3.B 2 H 6 尾气： Ar 、 H 2 O 、 C 2 H 6 、 B 2 H 6 、 H 2 、 （ C 2 H 5 ) 2 Zn 2020/4/22 11 ? 沉积室 参数： 温度：室温～ 300 ℃ 压力： 0.5~5Torr 传输腔： 1 个 沉积室： 3 个 进 / 出样室： 2 个 2020/4/22 12 2020/4/22 13 DEZ 和 H 2 O 气路管布局图 2020/4/22 14 MOCVD 设备外观图 2020/4/22 15 2020/4/22 16 2020/4/22 17 DEZ 性质 ? 无色液体、与水、空气可发生剧烈反应，易燃易爆， 对皮肤及眼睛有伤害。 2020/4/22 18 2020/4/22 19 ? 对厂房设计、安全要放在首位。一般厂房分为两层， 2 楼主要放氮气管、氨气管、空调、排风。 1 楼放 DEZ 2020/4/22 20 DEZ 房 2020/4/22 21 漏液燃烧室 2020/4/22 22