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第九章 晶体缺陷和第二相的
衍衬分析
衍衬分析要求的基本信息和实验条件
晶体缺陷的不可见性及其判据
位错的衍衬分析
晶体缺陷定量分析
层错的衍衬分析
第二相的衍衬分析
界面的衍衬分析
暗场成像技术的应用
引 言
衍衬分析
观察和分析晶体缺陷和第二相粒子等在各种衍射条件下 ,
所呈现的不同衬度特征
衍衬分析必须要依据相应的衍射条件 。否则 ,不考虑衍
射条件 ,仅凭衍衬像则无法进行衍衬分析
衍衬分析的主要任务
晶体缺陷和第二相的衬度来源及其特征
晶体缺陷的定性分析
晶体缺陷的组态 、密度及分布
第二相的空间形态 、体积分数 、尺寸及分布
晶体缺陷之间以及晶体缺陷和第二相之间的交互作用
第一节 衍衬分析要求的基本信息和实验条件
衍衬分析要求的基本信息
晶体相对于入射束的取
向测定面状和线状结构特 = -
i d
征
双光束衍射矢量g
确定缺陷的性质
偏离参量s 的大小和符号 200
影响衍射束强度及变化周期 000
磁转角
衍衬像中标注晶体学信息 柱状TiB横截面的形貌
和相应电子衍射花样
薄膜厚度
位错和第二相的定量分析
衍衬实验条件的选择
晶体取向
选择低指数的晶体取向 ,有利于获得低指数操作反射
操作反射g
优先选择低指数的操作反射 ,用其成像可获得较好的衬度
衍射条件
尽可能获得双光束条件 ,在晶体缺陷定性分析时尤为重要
偏离参量
明场像 :ω=ξ s≈0.2~ 1.0 ,暗场像 :ω≈±1
g
观察区域的样品厚度
样品过厚 ,因色差大引起图像分清晰度和分辨率下降 ;
样品过薄 ,缺陷分布状态和密度将会发生改变
第二节 晶体缺陷的不可见性及其判据
与完整晶体相比 ,有缺陷晶体的衍射波振幅引入一个附
加相位因子
exp(2ig R)
其中 , 2g R (2)N 称附加相位角
当g R N (N是整数 )时
α是2 的整数倍 ,附加相位因子为1 ,缺陷不显示衬度
称g R N 为晶体缺陷的不可见性判据
(N是整数 )
缺陷的R 一定 ,因选用不同操作反射g 而显示不同衬度
操作反射g 一定时 ,不同缺陷 (R 不同 )显示不同衬度
当N =0时 ,R 与g 垂直 ,R 在g 对应的晶面内 ,Δg=0
?
第三节 位错的衍衬分析
位错的不可见性判据
混合型位错
混合型位错引起的位移矢量为
R 1 b sin 2 1 2 cos 2
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