电子显微微镜现状.pptVIP

电子显微镜的现状与展望 电子显微镜(简称电镜,EM)经过五十多 年的发展已成为现代科学技术中不可缺 少的重要工具。我国的电子显微学也有 了长足的进展。电子显微镜的创制者鲁 斯卡( E Ruska)教授因而获得了1986年诺 贝尔奖的物理奖 ·电子与物质相互作用会产生透射电子,弹性散射电子,能量 损失电子,二次电子,背反射电子,吸收电子,X射线,俄 歇电子,阴极发光和电动力等等。电子显微镜就是利用这些 信息来对试样进行形貌观察、成分分析和结构测定的。电子 显微镜有很多类型,主要有透射电子显微镜(简称透射电镜 TEM)和扫描电子显微镜(简称扫描电镜,SEM)两大类 扫描透射电子显微镜(简称扫描透射电镜,STEM则兼有两 者的性能。为了进一步表征仪器的特点,有以加速电压区分 的,如:超高压(1MV)和中等电压(200-500kV)透射电镜、 低电压(~1kV)扫描电镜;有以电子枪类型区分的,如场发 射枪电镜;有以用途区分的,如高分辨电镜,分析电镜、能 量选择电镜、生物电镜、环境电镜、原位电镜、测长CD-扫 描电镜;有以激发的信息命名的,如电子探针X射线微区分 析仪(简称电子探针,EPMA)等。 ·半个多世纪以来电子显微学的奋斗目标主 要是力求观察更微小的物体结构、更细小 的实体、甚至单个原子,并获得有关试样 的更多的信息,如标征非晶和微晶,成分 分布,晶粒形状和尺寸,晶体的相、晶体 的取向、晶界和晶体缺陷等特征,以便对 材料的显微结构进行综合分析及标征研究。 近来,电子显微镜(电子显微学),包括扫描 隧道显微镜等,又有了长足的发展。本节 仅讨论使用广泛的透射电镜和扫描电镜, 并就上列几个方面作一简要介绍。 透射电子显微镜 1、高分辨电子显微学及原子像的观察 材料的宏观性能往往与其本身的成分、结构以及晶体 缺陷中原子的位置等密切相关。观察试样中单个原子像是 科学界长期追求的目粽。一个原子的直径约为1千方分之 2-3mm。因此,要分辨出每个原子的位置需要0.1nm左 右的分辨本领,并把它放大约1千万倍。70年代初形成的 高分辨电子显微学(HREM)是在原子尺度上直接观察分析 物质微观结构的学料。计算机图像处理的引入使其进一步 向超高分辨率和定量化方向发展,同时也开辟了一些崭新 AR用:间套蛋料物商 的 处理技术,为分子生物学开拍了一个崭新的域。因而 获得了1982年诺贝 的化学奖,以表彰他在发展晶体电 子显微学及核酸一蛋白质复合体的晶体学结构方面的卓越 贡献 用HREM使单个原子成像的一个严重困难是信号/噪声比 太小。电子经过试样后,对成像有贡献的弹性散射电 损失能量、只改变运动方向)所点的百分比太低,而非弹性 散射电子(既损失能量又改变运动方向)不相干,对成像无 贡献直形成亮的背底(亮场),因而非周期结构试样中的单 个原子像的反差极小。在档去了未散射的直透电子的暗场 象中,由于提高了反差,才能观察到其中的重原子:例如 铺和针BCA中的铀z=92和针(2=90)原 对于晶体 试样,原子阵列会加强成像信息。采用超高压电子显微镜 和中等加速电压的高亮度、高相干度的场发射电子枪透射 电镜在特定的离焦条 Scherzer欠焦)下拍摄的薄晶体 高分辨像可以获得直接与晶体原子结构相对应的结构像 再用图像处理技术,例如电子晶体学处理方法,已能从 200kV的JEM2010F场发射电镜(点分辨本领0.194m)拍 摄的分辨率约02nm的照片上获取超高分辨率结构信息, 成功地测定出分辨率约 ·0.1nm的晶体结构[6]。 2.像差校正电子显微镜 电子显微镜的分辨本领由于受到电子透镜球差 的限制,人们力图像光学透镜那样来减少或消除球差。但 是,早在1936年 Scherzer就指出,对于常用的无空间电荷 且不随时间变化的旋转对称电子透镜,球差恒为正值。在 40年代由于兼顾电子物镜的衍射和球差,电子显微镜的理 论分辨本领约为0.5nm。校正电子透镜的主要像差是人们长 期追求的目标。经过50多年的努力,1990年RoSe提出用六 极校正器校正透镜像差得到无像差电子光学系统的方法。 最近在CM200ST场发射枪200kV透射电镜上增加了这种六 极校正器,硏制成世界上第一台像差校正电子显微镜。电 镜的高度仅提高了24cm,而并不影响其它性能。分辨本领 由0.24nm提高到0.14nm[7]。在这台像差校正电子显微 镜上球差系数减少至005mm(50um)时拍摄到了GaAs 〈110)〉取向的哑铃状结构像,点间距为014m[8]。 3、原子尺度电子全息学 Gabor在1948年当时难以校正电子透镜球差的情况下提出了电子 全息的基本原理和方法。论证了如果用电子束制作全息图,记录电子 写电子光学的像差相几配,就能特到无像差的、分辨率更高的像。由 这种光室息