离子注入关键技术的发展及其在材料方面的应用.docVIP

离子注入技术发展 及其在材料方面应用  摘 要 离子注入是一项新兴材料表面改性技术。它能够使材料表面机械、物理、化学、电学等性能发生改变。有效地提升材料表面硬度和耐磨擦、耐磨损、抗腐蚀、抗疲惫等能力，延长材料使用寿命，增加经济收益。本文介绍了离子注入基础原理和技术特点，描述了离子注入在金属材料表面改性、半导体材料和超导方面技术应用，并展望了离子注入应用前景。 关键词：离子注入；材 料；表面改性；半导体；超 导 一、绪 论 离子注入技术于七十年代初首先成功地应用于半导体工业，成为制备大规模集成电路必不可少手段之一。八十年代起大家把离子注入技术开始用于金属材料表面改性。因为该项技术本身独特优点、良好改性效果和潜在巨大经济效益，多年来吸引了愈来愈多研究者开始从事该项技术开发研究。日前，伴随应用范围日益扩大和理论研究不停深入，离子注入技术日趋成熟。 多年来离子注入方法也愈加多样化，除了常规离子注入外，由此派生出其它注入方法有：反冲注入、动态反冲注入、离子束混合等。注入方法多样化完善了注入试验手段，使大家对多种具体情况能够选择合适注入方法，以满足不一样要求。 在实际应用中，很多方面全部需要固体材料有很好表面性能，如耐腐蚀性，抗磨损性，较高硬度和抗氧化性等，而这些性能全部直接和固体材料表面成份，结构组态，化台物相等相关，离于注入技术是最关键手段之一。 离子注入技术应用于金属材料改性，从碳素工具钢、硬质合金刚到人造或天然金刚石制造量具、刃具、刀具、模具和工件等，经过表面改性，可提升使用寿命。经离子注入后，材料(或工件)韵表面硬度、耐磨损性能、抗腐蚀能力及使用寿命等，通常可提升几倍到十几倍。现在，离子注入已经发展成为一门核技术和金属学之间新兴边缘学科——“离子注入冶金学” (Ion Implantation Metallurgy)。各发达国家全部十分关注这门学科发展和应用。 二、相关离子注入简单介绍 （一）离子注入定义 离子注入是利用一些杂质原子经离化后形成带电杂质离子，离子经过一定电场加速，直接轰击靶材料实现掺杂或其它作用。通常说,离子能量在1－5KeV称为离子镀；0.1-50KeV称作离子溅射；通常称10－几百KeV称为离子注入。注入到材料中离子含有很高能量，足以使注入层化学组分和原子结构发生改变，这么使得材料表面机械、物理、化学、电学等性能也随之改变．从而达成材料表面改性目标。 简单地说，离子注入过程，就是在真空系统中，用经过加速，要掺杂原子离子照射（注入）固体材料，从而在所选择（即被注入）区域形成一个含有特殊性质表面层（注入层），是把掺杂剂原子引入固体中一个材料改性方法。下面是一个离子注入系统示意图。 不一样类型离子源用于产生多种强度离子束；质量分析器用来除去不需要杂质离子；束流扫描装置用来确保大面积注入均匀性；靶室用来安装需要注入样品或元器件，对不一样对象和不一样注入条件要求可选择不一样结构靶室。 （二）离子注入技术特点 离子注入是一个新型表面处理技术。它是经过注入外来离子改变材料近表面化学成份和表面层结构, 从而提升材料表面物理、力学和化学性能, 同时又保持基体材料原有性能、尺寸和表面光洁度。 和其它处理技术相比, 离子注入有以下特点 1、可将任何元素注入基体材料近表面层, 而不受热力学限制； 2、注入元素和基体材料选配不受限制,注入量不受材料溶解度限制, 能够得到常规方法不能得到表面层结构； 3、注入层和基体材料之问无显著界面, 不存在脱落分层问题, 不妨碍基体传热； 4、注入元素数量和注入深度均可正确控制, 易于实现自动化生产。因为可控制性改善, 离子注入使半导体器件产量提升10倍； 5、可在低温、室温和高温下进行离子注入能在低温下处理是离子注入一个突出优点,这对高温下处理时会使基体性能恶化零部件是十分关键； 6、注入工件表面元素均匀性好, 这尤其有利于半导体集成电路掺杂, 改善掺杂均匀性, 能够提升集成电路成品率； 7、注入工件表面元素纯度比较高； 8、不会产生污染环境排泄物。 上述优点使离子注入技术在很多应用领域研部门和工业界广泛注意。它首先在航空航天和军械工业中得到重视和应用。现在研制离子注入设备可降低生产成本, 使离子注入技术可和传统精饰工艺相竞争。 三、离子注入技术发展及应用 （一）在金属材料改性方面应用 离子注入作为金属材料表面改性手段已受到关注, 其应用关键有以下三点改变金属材料表面力学性能，如摩擦、摩损、硬度和材料疲惫寿命等,改变金属材料表面化学性能, 如高温及中温条件下抗氧化性能、抗水溶液腐蚀性能及提升表面电化学性能等改变金属材料表面物理性能, 如电性能、超导性能、光学性能及绝缘性能等。 1．材料表面改性通常方法及物理过程 离子注人材料表面改性通常方法是，选择部分适宜种类离子，如N、C、Ti等，经