薄膜成分分分析的方法.ppt

薄膜材料成分分析方法  到目前为止,对薄膜结构 和成分分析的研究方法已达 百多种。但它们具有共同的特 征:利用一种探测束——如电 子束、离子束、光子束、中性 粒子束等,从样品中发射或散 射粒子波,他们可以是电子 离子、中性粒子、光子或声波 检测这些粒子的能量、动量、 荷质比、東流强度等特性,或 Phonon(bea: 波的频率、方向、强度、偏振 等情况,来分析材料化学组成 表面分析方法的特征 原子结构、原子状态、电子状 注:输入箭头表示探测粒子或手段 输出箭头表示发射粒子或波 等方面的信息。  薄膜成分分析方法介绍 按探测“粒子”分类,表1列出一些薄膜成分分析方法。 探测粒子发射粒子名称英文简基本过程 测量 主要用途信息 俄歇电子AE俄歇退激电子产额对能量表面成分单层或 的一次微商谱 层原子层 扫描俄歇|sAM|俄歇退激表面微区的俄歇表面成分单层或几 微探针 电子谱 分有 层原子层 电离损失s 电子产额对能量成分 的一次微商谱 能量弥散XEDs 成分 射线谱 软x射线出 SXAPS辐射退激|软x射线产额对表面成分儿层原子 现电势谱 电子能量的一次 微商谱 消隐电势|DAPS 成分 俄歇电子 AEAPS俄歇退激样品电流对入射表面成分儿层原子 出现电势 电子能量的一次 微商谱 电子感生EsD 附键断脱附粒子的质谱表面吸 脱附谱 附成分及 其状态  深测粒子发射粒子 英文简称基本过程 测量 主要用途信 工 次级离子质 离子溅射次级离子的荷质表面成分 离子探针Isw离子溅射表面微区次级离 表面成 单层或数 子质 分分布 层原子层 I 离子散1ss非弹性背散射离子产额 表面成分 单层原 表面结构 的关系 I 卢瑟福背RBs非弹性背散射离子产额与成分的深|单层-1微 度分布 热脱附谱 吸附键断脱附粒子的质谱 单层原子 层 质子(或离Px,x辐射退激x射线强度与波长表面成分单层-1微 的关 的深度分布 X射线谱 y e X射线光电 光电子发发射电子的能谱表面成分及单层数 其化学状态 射线能谱 EDS 特征x射线能谱 成分 光谱  探测粒发射粒名称英文简基本过程 测量 主要用信息深度 称 辉光放电GDMS 成分 电感耦合ICP 特征光谱 成分 子体发射 原子吸收AAS  常用成分分析方法介绍 重点介绍如下 离子散射谱分析∫离子散射谱 离子作为探测束 卢瑟福背散射 的成分分析方法 次离子质谱分析(SIMS) 通过分析中性粒子和离子碰撞引起 的光辐射研究表面成分(如ICP-AES) X射线作为探测束 俄歇电子能谱(AES) 的成分分析技术1X射线光电子能谱(x X射线荧光光谱分析(XRF) 子束作为探测束 分分析技术 :X射线能谱仪成分分析(EDS  离子作为探测束的表面分析方法 QⅡ s 离子与固体表面的相互怍用(重点说明重粒子的发射 1一发射区;2一注入区;3一品格忧动波及区  离子散射谱分析 以离子作为探测束,与靶原子进行弹性碰撞。根据 弹性散射理论,分析散射或背散射所携带的有关靶原 子的信息,得到最表层的信息。离子散射谱一般分为 两种: a.离子散射谱(ISS):低能离子散射谱; b. Rutherford背散射谱(RBS):高能离子散射谱。  离子散射谱(ISS)分析 机理:用低能(0.2-2keV 的惰性气体离子与固体相 互作用时,可发生弹性散射 和非弹性散射两种情况。选 择入射离子的能量,使之低 量分析器 于某一数值后可以使其与表 面主要发生弹性散射。 通过对散射离子能量进行分 析就可以得到表面单层元素 组分及表面结构的信息。由被案子力 于信息来自最表层,因而ISS 成为研究表面及表面过程的 ISS分析的原理示意图 力的分析手段。  特点: 、入射离子的质量越轻,碰撞后运动状态的改变越大 因此,ISS最常选用的离子是He+,但它不易分辨重 元素; 2、ISS信息来自最表面层,且能探测表面的结构,因而 成为研究最表层的成分和结构的有效手段,并常用于 吸附/解吸和发射等表面过程的研究; 3、ISS对不同元素的灵敏度的变化范围在3-10倍之间, 分析时对表面的损伤很小。但定量分析有一定的困 难,谱峰较宽,质量分辨本领不高,检测灵敏度为