物理博士学位论文提纲.docVIP

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物理博士学位论文提纲 物理博士学位论文提纲范文 的作用主要表现在将内容按照一定的构建搭建起来,下面是搜集的物理博士学位论文提纲范文,供大家阅读参考。 摘要 5-7 Abstract 7-8 目录 9-12 第1章 绪论 12-26 1.1 半导体激光器的研究进展 12-21 1.1.1 高功率半导体激光器 12-15 1.1.2 高效率半导体激光器 15 1.1.3 高可靠性半导体激光器 15-16 1.1.4 高光束质量半导体激光器 16-18 1.1.5 窄线宽半导体激光器 18-21 1.2 单纵模半导体激光器的研究进展 21-23 1.2.1 国外单纵模半导体激光器的研究进展 22-23 1.2.2 国内单纵模半导体激光器的研究进展 23 1.3 本文的研究目的与内容 23-26 第2章 高阶光栅单纵模半导体激光器理论设计与分析 26-46 2.1 半导体激光器的基本特性 26-29 2.1.1 半导体的辐射跃迁 26-27 2.1.2 半导体激光器的增益与阈值条件 27-29 2.2 半导体激光器的输出功率与转换效率 29-31 2.2.1 半导体激光器的输出功率 29-30 2.2.2 半导体激光器的转化效率 30-31 2.3 半导体激光器的纵模与光谱特性 31-32 2.4 高阶布拉格光栅波导的理论模型 32-38 2.4.1 分布反馈(DFB)激光器和分布布拉格反射(DBR)激光器 32-33 2.4.2 散射理论 33-36 2.4.3 传输矩阵理论模型 36-38 2.5 高阶布拉格光栅波导的光学特性分析 38-42 2.5.1 传输矩阵分析 38-40 2.5.2 高阶布拉格光栅的损耗光谱 40-42 2.6 单纵模激光器的空间相干性分析 42-45 2.6.1 部分相干光定理 42-43 2.6.2 相干度理论计算方法 43-45 2.7 本章小结 45-46 第3章 高阶光栅单纵模半导体激光器制备 46-68 3.1 外延生长技术 46-47 3.2 光刻技术 47-52 3.3 刻蚀技术 52-61 3.3.1 干法刻蚀 52-55 3.3.2 SiO2和GaAs刻蚀工艺探索 55-59 3.3.3 湿法腐蚀 59-61 3.4 薄膜生长技术 61-65 3.4.1 电绝缘膜生长技术 62 3.4.2 金属电极生长技术 62-64 3.4.3 光学薄膜生长技术 64-65 3.5 高阶光栅半导体激光器的制备 65-66 3.6 本章小结 66-68 第4章 高阶光栅分布布拉格反射半导体激光器 68-94 4.1 高阶光栅单纵模分布布拉格反射半导体激光器 68-81 4.1.1 器件结构设计 68-76 4.1.2 器件制备 76-77 4.1.3 器件测量结果 77-81 4.2 双波长高阶光栅分布布拉格发射激光器 81-86 4.2.1 器件设计 81-83 4.2.2 器件制备 83-84 4.2.3 器件测量结果 84-86 4.3 高阶光栅耦合半导体激光器可靠性分析 86-92 4.3.1 拉曼光谱分析技术原理 87-88 4.3.2 测试结果与分析 88-92 4.4 本章小结 92-94 第5章 高阶光栅单纵模分布反馈半导体激光器 94-100 5.1 器件制备 94-96 5.2 器件测量结果 96-99 5.3 本章小结 99-100 第6章 单纵模半导体激光器件空间相干特性的研究 100-116 6.1 VCSEL单管器件空间相干性研究 100-107 6.1.1 部分相干光理论 101-103 6.1.2 测试结果 103-107 6.2 VCSEL列阵器件的.空间相干特性研究 107-114 6.2.1 器件设计 107-110 6.2.2 器件制备 110 6.2.3 测试结果 110-114 6.3 本章小结 114-116 第7章 总结与展望 116-118 118-132 摘要 3-4 Abstract 4-5 引言 8-9 1 绪论 9-15 1.1 研究背景及意义 9-10 1.2 国内外研究现状 10-13 1.3 论文的主要研究内容 13-15 2 光的力学效应 15

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