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(一)载流子注入式场致发光效应 ? 1923年劳苏(O.W.lasse w)在对碳化硅晶体进行研究时,观察 到了场致发光现象。后来,人们在锗、 硅、磷化镓等许多晶体的P-N 结观察 到了持续的场致发光。P-N 有 同质结 、 异质结 之分,下面分别讨论, ? 激发的方式多种多样,依激发方式不同可将发 光分为 光致发光 、 电(场)致发光 、 化学发光 等。 从能量角度看,发光是将其它能量转变成光能的 过程。场致发光是指发光材料在电场作用下的发 光。是电能转变为光辐射能的过程 . (1)同质结注入 ? 同种本征半导体单晶 通过掺杂成为 N 型和P 型,让其相互接触便成 为同质结。P-N结区 是势垒区,其能带如图 2-15(a)所示。 ? 不加电压时, P 区和N区的多数载流子空穴和电子,被 结区势垒阻挡无净流动。若给 P - N 结加正向电压,这 时势垒降低,势垒区变窄。 N 区的多数载流子 —— 电子注 入P区;P区的多数载流子 —— 空穴注入 N 区。空穴在 N 区,电子在 P 区为少数载流子。 ? 掺杂本征半导体注入的少数载流子与该区的多数载流于 复合,相当电子从导带跃迁到价带,从而辐射出光子 h ν 。 (2)异质结注入 ? P 区和 N 区是由不同本征半 导体单晶掺杂而成,如图 2-16(a)所示, 它 们的禁带宽度不同,P型 区和N型区接触后,对空 穴和对电于的势垒高度不 同。 ? 如图2-16(b)所示, 当给 P - N 结加上正向电压时 , 对P区 的空穴不存在势垒,不断向N区 扩散,形成空穴流,注入的空穴 与 N 区电子复合发光。 对于N区的 电子,相对 P 区仍存在势垒,其势 垒高于两种材料的禁带宽度之差。 ? N 区的电子不能注入 P 区。这样,禁带宽的P区就成了注入 空穴的源。禁带窄的N区成了发光区。 发光二极管(LED) ? 载流子注入场致发光效应最流行的应用是制作发光 二极管(LED),用来发射可见光和红外光。由于 LED 具有工作电压低、功耗小、寿命长等优点,使它 在固体显示中已居主导地位,广泛用于电子计算机、 各种仪器仪表中的指示灯,数字、符号的显示器。作 为光通信和各种检测、监控设备的光源,LED也是 光电耦合器中不可少的部件。 目前制做LED的材料,用得最多的是Ⅲ一Ⅴ族化合 物半导体。二元化合物中,GaAs用来做红外LE D ,GaP主要用来做红光(GaP:ZnO)、 绿光( GaP : N )和黄光( GaP : N ) LED 。用来做 LED 的三 元化合物有GaAsP、AlGaAs等。 LED发射的是非相关光, 为了获得相干光,人们又利用这 个效应制作出了小巧的半导体激 光器。 P 一 N 结正向注入式半导体 激光器的基本结构如图 2-17 所示。 与一般二极管一样,它也是由P -N结构成, 不同的是有两个垂 直于P-N结的反射面,以构成 光谐振腔。 LED半导体激光器 要产生受激辐射 —— 激光,必须满足三个条件: ◆ 粒子按能级分布数反转, ◆ 具备光谐振腔, ◆ 泵浦功率超过确定的域值。 在平衡态下,粒子总是趋向于分布在低能级,所以 高能级粒子比低能级分布的粒子少,所谓 “粒子数分布 反转”是说高能级的粒子比低能级分布的多 。对半导体 激光器,涉及的是能带材料,电子服从费米分布。 粒子数反转不是说整个导带的电子数大于整个价带的 电子数,而是 紧靠导带底上面能区的电子数多于紧靠价 带顶下面能区的电子数 。 为此,对于材料来说,需要在 P区和N区进行高掺杂。 光谐振腔对发射的光波起选择作用,使其共振频率在 谐振腔中形成稳定的振荡,而其它的被抑制掉。 即使材 料具备形成粒子数反转的条件,也不等于实现和维持了 粒子数分布的反转。 还要 有一个能源将粒子从低能级泵浦到高能级去, 泵 浦功率太小,粒于数反转仍不能实现和维持,这时仍是 自发辐射非相干光。 只有泵浦功率(这里是流过二极管的电流I)超过 临界域值才能真正实现和维持住粒子数反转,从而产生 受激辐射 —— 激光。 半导体激光器特点与发展现状 ? 半导体激光器是在1962年发明的,由于体积小和能进行 高频调制,成了光纤通讯的主要光源,用InGaAlP四元 半导体制作的波长:1.3~1.5 μm 的半导体激光器主要 用于光通讯 。 用AlGaAs双异质结做的半导体激光器, 发射波长 750 ~ 890nm 的激光、广泛用于激光打印、光盘及家 用电器中。半导体激光器不但可产生红外光,也可产生可见光。 用InGaAlP材料的异质结和量子阱做成的激光器波长为 670
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