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power电源导(负片)
Vcc电源层(负片)
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GENESIS200O入门教程
Padup谷大 pad
paddn 缩小 pad
reroute
扰线路
Shave削
pad
lin edow n 缩线
lin e/sig nal 线
Layer
层
in
里面
out外面
Same layer 同一层
spacing
间隙
cu
铜皮
Other layer 另
」层
positive 正
n egative 负
Temp
临时
top 顶层
bot底层
Soldermask
绿油层 silk
sold nm ask 绿油(负片) apply
sold nm ask 绿油
solder焊锡 singnal线路信号层
Si nde 边、input
Si nde 边、
component兀器件
Close关闭
zoom 放
大缩小
create 仓U建
Reste重新设置
corner直角
ste p PCB
文档 Center中心
snap捕捉
board 板
Route 锣
rep air修理、编辑
resize编辑)放大缩小 an alysis分析
面 Adva need高级
measuer 测量PTH hole
measuer 测量
PTH hole沉铜孔
NPTH hole 非
沉铜孔 out put导出
VIA hole导通孔smd pad
VIA hole导通孔
smd pad 贴片 PAD
repl ace 替
fill填充
Attribute
Attribute 属性 round 圆 square正方
recta ngle 矩形
Select选择
in elude 包含
exclude 不包
含 ste p工作单元
Resha pe改变形状profile
Resha pe改变形状
profile 轮廓
drill 钻
rout锣带
Acti ons操作流程an alyis 分析
Acti ons
操作流程
an alyis 分析
DFM 自动修改编
circuit 线性
Ide ntify识别tran slate 转换
Ide ntify
识别
tran slate 转换
job matrix 工作
rep air修补、改正Misc辅助层
rep air修补、改正
Misc辅助层
dutum point 相对原点 corner 直
optimization 优化
orig in 零点部
orig in 零点
部 check检查
center中心
global 全
refere nee layer 参考层 refere nee selecti on 参考选
reverse select ion 反选
snap对齐in vert
snap对齐
in vert正负调换
symbol 元
feature 半径
histogram 元素exist
histogram 元素
exist存在
an gle
dime nsions标准尺寸
填充参pan elizati on 拼图 fill p arameters
填充参
数 redu nda ncy沉余、清除
层
英文简写
层属性
顶层文字
Top silk scree n
CM1( gtl )
silk-scre n
顶层阻焊
Top solder mask
SM1 ( gts )
solder-mask
顶层线路
Top layer L1
(gtl )
sig nal
Features histogram当前层的图像统计Copy复制Merge合并层Unm erge反合并层(将复合层分成正负两
Features histogram
当前层的图像统计
Copy
复制
Merge
合并层
Unm erge
反合并层(将复合层分成正负两
Op timize lerels
层优化(当正负层太多时,要优化成
内层第一层
po wer ground (gnd) PG2
(12-pw )
po wer-gro un d(负片)
内层第二层
sig nal layer L3
sig nal (正片)
内层第三层
sig nal layer L4
sig nal (正片)
内层第四层
po wer ground
(VCC) L5
(15-vcc) po wer-gro un d(负片)
外层底层
bottom layer L6 ( gbl )
sig nal
底层阻焊
bottom solder mask SM6
solder-mask
底层文字
bottom silk screen CM6
silk-scre n
层菜单
Dis play当前层显示的颜色
Dis play
最大3层)
Fill P rofile
填充p
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