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晶体三极管的特性与参数
1
晶体三极管的基本应用
2
半导体三极管
结构与符号
发射极 E
基极 B
集电极 C
发射结
集电结
— 基区
— 发射区
— 集电区
NPN 型
PNP 型
晶体三极管的工作原理
分类
按材料分
硅管、锗管
按结构分
NPN、PNP
按使用频率分
低频管、高频管
按功率分
小功率管 500 mW
中功率管 0.5 ~1 W
大功率管 1 W
分类
晶体三极管的工作原理
放大条件
内部
条件
外部
条件
输入
回路
输出
回路
IE
IB
IC
发射结正偏
集电结反偏
+
-
集电结反偏( UCB0 )
发射结正偏( UBE0 )
集电结面积大
基区薄且掺杂浓度低
发射区掺杂浓度高
晶体三极管的工作原理
电流分配关系
当管子制成后,发射区载流子浓度、基区宽度、集电结面积等确定,故电流的比例关系确定,即:
以小电流(IB)控制大电流(IC)的作用,称为晶体管的电流放大作用。
晶体三极管的工作原理
内部载流子的传输过程
1) 发射区向基区注入多子电子,
形成发射极电流 IE。
I CN
多数向 BC 结方向扩散形成 ICN。
IE
少数与空穴复合,形成 IBN 。
I BN
基区空
穴来源
基极电源提供(IB)
I CBO
IB
IBN IB + ICBO
即:
IB = IBN – ICBO
3) 集电区收集扩散过来的载流子形成集电极电流 IC
IC
I C = ICN + ICBO
2)电子到达基区后
(基区空穴运动因浓度低而忽略)
集电区少子漂移(ICBO)
晶体三极管的工作原理
考虑到集电结反向饱和电流ICBO的影响:
IE = IC + IB
穿透电流
晶体三极管的工作原理
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