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QJ 07 是指利用光照在浅层立体痕迹表面产生的阴影,清 晰表现痕迹形态特征的加强反差摄影方法。 阴影法适用对象:松软泥土地面足迹、压痕字迹、锯锉等浅层立体痕迹。这类痕迹与客体属同种物质,反射率差异甚微,正面光照下痕迹形态特征不清。 三、“亮度对比法”加强反差摄影 黑 (一)“阴影法”加强反差摄影 根据被摄对象的不同属性,亮度对比法又可分为“阴影法”、 “反射法”、 “透射法”三种基本方法。 1、“阴影法”的概念及适用对象 QJ 07 为产生能显示特征的合适投影,“阴影法”要采用单向侧光配光技术。配光要点为: 在暗房或暗环境中,单向侧光照明; 根据痕迹形态特征,选择合适的光照角度和方向。 光照角度 入射角 法线 被摄物面 黑 (一)“阴影法”加强反差摄影 ★ 光照角度的确定 由痕迹的深度与宽 度之比来确定。 入射光线 2、“阴影法”的配光技术 QJ 07 痕迹深度与宽度相当,光照角度约为45o。 痕迹深度大于宽度,光照角度应大于45o。 痕迹深度小于宽度,光照角度应小于45o。 光照角度由痕迹的深宽比确定 QJ 07 ★ 原则是:光照方向与痕迹花纹的走向垂直,使痕迹产生明显的阴影。 具体又有以下几种情况: ◆ 对于因磨擦、锯锉等形成的简单直线状凸凹纹,光照方向应与纹线走向相垂直。 光照方向 确定光照方向的原则 QJ 07 ◆ 纵横交叉线状纹线,光照方向应指向角平分线。 一字形螺丝刀撬压痕迹 ◆ 复杂角状花纹,光照方向应从角分线方向先后两次照射,在同一底片上进行两次曝光。 第一次 曝光 第二次 曝光 浅层交叉线状痕迹 光照方向的确定原则 QJ 07 对压痕字迹、立体手印、足迹等,应以相同光照角度,取三个以上光照方向,在同一底片上进行多次曝光,以完整显示这类立体花纹痕迹的特征。此时,每次曝光量要相应减少,以免曝光过度。 “阴影法”的单底多次曝光技术 第一次曝光 的光照方向 第二次曝光的光照方向 第三次曝光的光照方向 QJ 07 室外阳光下松软物质上足迹的配光 在室外阳光下拍摄松软物质上的足迹时,应创造局部的暗环境(如用黑布罩住足迹),将日光反射到布罩内(或在布罩内用手电筒打光),满足单向侧光照明配光条件,足迹表面将会产生合适的阴影。 黑布罩 平面镜 太阳 立体足迹 松软物质 QJ 07 粗糙泥土地面上 的足迹原貌 用纸箱罩住检材后单侧向打光拍摄的效果 室外阳光下粗糙泥土地面上足迹的拍摄 QJ 07 是指运用合适的反射配光技术,增大痕迹与客体的反射率差异,加强潜痕迹与客体的亮度反差,显示痕迹形态特征的专门拍摄方法。 “反射法”适用对象:不透明各类客体表面的各种物质的微弱痕迹。 反射法使用面广,不损害痕迹物证原始状态,在物证摄影时,应优先运用这种无损显现和固定技术。 用反射法首先要弄清痕迹及客体各自的反射特性。 黑 (二)“反射法”加强反差摄影 1、“反射法”的概念及适用对象 QJ 07 反射率描述物质对光线的反射能力。物质种类不同反射率不同;同种物质的反射率还与其表面结构及状态、入射光的波长、入射方向及角度等因素有关。 物 体 反射率(%) 物 体 反射率(%) 白雪 96 黄土地 12~20 白墙 75 ~90 柏油地 7~10 光滑白纸 80~95 红砖墙 10~15 粗糙白纸 60~80 牛皮纸 16 砂地 30~50 黑纸 1~2 2、物质反射率及影响因素 黑 (二)“反射法”加强反差摄影 QJ 07 (1)定向反射(镜反射)及其特点 是指光线在光滑物体表面的反射,其特点是只有在反射定律确定的方向上有光能分布。 定向反射 定向反射光 光滑表面 入射光 黑 (二)“反射法”加强反差摄影 法线 3、光在物质表面反射的基本模式 QJ 07 (2) 漫反射及其特点 是指光线在粗糙表面上的反射,其特点是反射光在以入射点为球心的半球面上对称均匀分布,即任何反射方向上分布的光能都一样。 漫反射 粗糙表面 入射光 反射光 3、光在物质表面反射的基本模式 QJ 07 (3) 混合反射及其特点 是指光线在半光滑表面上的反射,其特点是反射光能的分布呈椭球形,椭球的长轴方向与定向反射方向一致,该方向上具有最大的反射光能。当入射角减小时,椭球长轴向朝着物面法线方向靠拢。 混合反射 入射光 半光滑表面 反射光 椭球长轴方向具有最大的反射光能 法 线 3、光在物质表面反射的基本模式
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