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集成光学课程设计报告
SOI高速微环谐振腔电光调制器件设计
目录
Chapter0
背景介绍
2
Chapter1
入门:基本设计剖析
3
1.1
材料、构造的选择
3
1.2
电学构造剖析
3
1.2.1
硅的等离子色散效应
3
1.2.2
载流子的散布及运动
4
1.2.3PN二极管
5
1.2.4
电学构造的静态特性
5
Chapter2
进阶:模型成立和剖析
7
2.1
微环谐振腔
7
2.1.1
谐振腔频谱
7
2.1.2
调制效率优化
8
2.2PN结载流子注入
8
2.3
硅材料混杂和载流子浓度散布
9
2.3.1
硅材料的折射率的变化
10
2.3.2
折射率调制效率优化
12
2.3.3
硅PN结的时间常数
13
2.4PN结载流子注入的微环谐振腔
14
2.4.1
环半径的选择
14
2.4.2
调制频谱
15
2.4.3
调制效率
15
2.4.4
调制速率
17
Chapter3
完善:模型仿真与优化
18
3.1
耦合系数设计
18
3.2
一些仿真的尝试——器件Rsoft仿真
20
3.3
仿真结果剖析
29
3.4
构造优化方向
29
Chapter4
达成:制作工艺与流程
30
4.1
工艺介绍
30
4.2
疆域设计及工艺流程
30
Chapter5
设计总结
32
参照文件
33
附录:Matlab
程序代码
35
小组分工:
武绎宸
3100104210:微环调制器的构造剖析与设计,
matlab
仿真,文件收集与整理,报告
Chapter2
的编写。
李文渊
3100104388
周鑫
3100102719:Rsoft
仿真,构造参数优化设计,报告
Chapter3
的
编写。
陈纾悦3100102803:设计报告策划与整合,微环制作剖析,调制器的制作工艺,报告
Chapter0,Chapter1,Chapter4,Chapter5 的编写。
Chapter0背景介绍
通信光网络是以激光作为信号的载体
,以光纤作为传输媒介的方式进行的。与电缆或微
波通信相比,光通信具有传输频带、传输衰减小、信号串扰弱、抗电磁扰乱能力强等优点。
随着科学技术的迅猛发展
,通信领域的信息传输容量在急剧增长
,人们对带宽的需求越来越
大。对带宽需求的迅猛增长要求加大通信网路的传输容量。
光网络以其大容量优秀的透明性、
波长路由特性兼容性和可扩展性
,成为高速宽带网络的首选。
而在通信网络的终端
,如计算机、
电话、传真机等仍旧采用的是电信号。
因此,在光通信系统中,电信号到光信号的变换是不可
或缺的过程。电光调制器的基本功能是实现电信号到光学载波的转移
,它是光纤通信网络中
的中心元件。目前应用最宽泛的高速光调制器是利用
LINbO3或III-V
族化合物高速的线性
电光效应来实现的,但由于与传统的硅基微电子工艺不兼容
,成本较高。而硅元素散布宽泛
,
并且以硅材料为基础的
CMOS工艺特别成熟,工厂林立。如果能设计制作出硅基的电光调制
,
利用成熟的硅工艺进行工业化的批量生产
,就能大大减小了器件的成本
,使硅基电光调制器
成为LINbO3及III-V族化合物的理想替代品。
另一方面,上个世纪60
年代以来,集成电路(IC)
技术获得了突飞猛进的发展。三十年
来,CMOS工艺的特点尺寸持续减小
,器件的速度不断提高
,单片上集成的器件密度不断增大
,
这些变化趋势按照著名的摩尔定律。
但是,
随着尺寸的进一步缩小至深亚微米后
,集成电路的
运算速率增加有所放缓
,电信号在金属线中的传输遭遇瓶颈。这主假如由于当晶体管沟道长
度小于一定值时,总延迟将不再取决于晶体管的开关时间
,而是由金属连线延迟来决定。而由
于单片集成电路的集成度在不断增加
,芯片里的金属互联线的长度也将会越来越长。随着互
连长度的增加,整个芯片构造的复杂程度也将渐渐增大
,
金属的布线层数也会增多。由金属线
尺寸的减小以及密度的增大致使传输延迟和寄生电容电阻效应
,会给芯片的稳定工作带来致
命的影响。此外,芯片内如此密集的金属线会大大增加功耗
,并且产生热散逸问题
,芯片内产
生的热量密度会超过普通电炉
,甚至在不久以后会达到核反响堆的水平。而光互连具有很多
先天的优势:光子传输的速度远大于电子的速度
,光互连延迟远小于电互连;光信号的复用能
力强,能在空间独立流传
,彼此互不扰乱,因此同一条光路能够传输多个波长光信号
,大大扩
展了线路的传输带宽;光的抗电磁扰乱能力强
,传输损耗低。如果将电路计算所得的电信号转
化成光信号进行传输 ,电互联中的各种问题都有望得到解决。目前由光纤和 III-V 族激光光
源组成的光互连已经被用来实现不同计
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