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第一章习题
1 .设晶格常数为 a 的一维晶格, 导带极小值附近能量 E c (k) 和价带极大值附近能量 E V(k)
分别为:
EC ( K ) =
h2k 2
3m0
h 2( k
m0
k ) 2
, EV ( k )
h k 1
2 26m
2 2
3h 2 k 2
m0
1m0 为电子惯性质量, k1
1
, a 0.314 nm。试求:
a
(1 )禁带宽度 ;
( 2 )导带底电子有效质量 ;
( 3 )价带顶电子有效质量 ;
( 4 )价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化解:( 1 )
导带:
2 2 k
由
2 2 (k
k1 ) 0
3m0 m0
k1得: k 3
k
1
4
d 2 E
2 2 2 2 8 2
又因为:
c
dk2
3m0 m0
0
3m0
所以:在 k
价带:
3 k处, Ec取极小值
4
dEV
6 2 k
0得k 0
dk
又因为
m0
Vd 2 E
V
dk 2
6 0, 所以k
2m
2
0处, EV
取极大值
因此: Eg
0
223 k1
2
2
EC ( k1 ) EV (0) 0.64eV
4 12m0
m*
2 3
nCm0
nC
Cd 2 E 8
C
k1dk 2 k 3
k
1
4
m*
2
nVVd 2 E
nV
V
dk 2
m0 6
k 01
准动量的定义: p k
所以: p
( k) 3
k k
( k ) k 0
3
k1 0
4
7.95
10 25 N / s
4 1
2. 晶格常数为 0.25nm 的一维晶格,当外加 10 2V/m , 10 7 V/m 的电场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。
解:根据: f
k k
qE h 得 t
t qE
t1
1.6
t 2
1.6
(0 )
a
10 19
(0 )
19a
19
10
10 2
710
7
8.27
8.27
10 8 s
10 13 s
补充题 1
分别计算 Si( 100 ),( 110 ),( 111 )面每平方厘米的原子个数,即原子面密度(提示:先画出各晶面原子的位置和分布图)
Si 在( 100 ),( 110 )和( 111 )面上的原子分布如图 1 所示:
(a )(100) 晶面 (b ) (110) 晶面
( c) (111) 晶面
41 4 1
4
(100): 2
a
2 4 1
2
a 2 (5.43
2 1
2
10 8 ) 2
6.78
1014 atom / cm2
(110):
4
(111):
4 2
2a a
1 2 1 2
4 2
3 a 2a
2
4
2a 2
4
3a 2
9.59
7.83
1014 atom / cm 2
1014 atom / cm2
补充题 2
一维晶体的电子能带可写为
2 7
E( k ) 2 ( ma 8
cos ka
1 cos 2ka) ,
8
式中 a 为 晶格常数,试求
( 1)布里渊区边界;
( 2)能带宽度;
( 3)电子在波矢 k 状态时的速度;
m*( 4)能带底部电子的有效质量 n ;
m
*
m*
m
(5 )能带顶部空穴的有效质量 p
解:( 1 )由
dE (k) dk
得 k n a
( n=0 , 1 , 2 )
进一步分析 k
(2 n
1) ,E (k )有极大值,
a
E( k)
2 2
MAX ma 2
k 2n
时, E( k )有极小值
a
所以布里渊区边界为 k
(2n 1)
a
2
2
能带宽度为
E( k)
MAX
E(k)
MIN
ma 2
(3 )电子在波矢 k 状态的速度 v
1 dE
dk
(sin ka
ma
1 sin
4
2ka)
(4 )电子的有效质量
2 m
m*
m
n d 2 E dk 2
(cos ka
2n
1
cos 2ka)
2
*
能带底部 k
a
( 2n
所以 mn 2m
1)
(5) 能带顶部 k ,
a
* *
且 mp mn ,
所以能带顶部空穴的有效质量
* 2m
mp
m
3
半导体物理第 2 章习题
实际半导体与理想半导体间的主要区别是什么?
答:(1 )理想半导体:假设晶格原子严格按周期性排列并静止在格点位置上,实际半导体中原子不是静止的,而是在其平衡位置附近振动。
( 2 )理想半导体是纯净不含杂质的,实际半导体含有若干杂质。
( 3 )理想半导体的晶格结构是完整的,实际半导体中存在点缺陷,线缺陷和面缺陷
等。
以 As 掺入 Ge 中为例,说明什么是施主杂质、施主杂质电离过程和 n 型半导体。
As 有
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