【国盛证券】半导体设备系列报告：光刻机，半导体制造皇冠上的明珠.pdfVIP

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2021-07-25 发布于浙江
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【国盛证券】半导体设备系列报告：光刻机，半导体制造皇冠上的明珠.pdf

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证券研究报告 | 行业深度 2021 年07 月19 日电子半导体设备系列：光刻机，半导体制造皇冠上的明珠光刻：将掩膜板上的图形曝光至预涂了光刻胶的晶圆表面上。光刻胶（正胶）增持（维持）受到照射的部分，将发生化学变化，从而易溶于显影液。光刻机是芯片制造的支柱设备，一般分为准直透镜系统（EUV 除外）、掩膜板对准系统、曝光系统等。光刻机设备的核心零部件包括光源、镜头以及精密结构等。行业走势光刻机演变史，目前以步进式为主，EUV 应用于先进制程。光刻机在1985 电子沪深300 年之前，以 g 线（436nm ）为主；1985 年以后，出现少量 i 线（365nm ） 32% 光刻机；1990 年开始出现DUV 光刻机；踏入21 世纪，193nm 的深紫外线开始使用。13.5nm 的EUV 在近十年兴起，应用于先进制程。EUV 的高分辨 16% 率大幅降低重复曝光所需要的沉积、刻蚀等工艺步骤。光刻机从分类方式的演变，从接触式向接近式，最后演变成步进式为主。 0% 2020 年，全球光刻机市场约 135 亿美元，占全球半导体制造设备市场 -16% 21%。光刻机市场一直以来在全球设备市场中的比重都较高，具有较高技 2020-07 2020-11 2021-03 2021-07 术难度，并且单台设备价值量也较高，属于半导体制造设备的“皇冠”。光刻机单机价值量高，每年出货数量约300~400 台，其中EUV 的供应比作者较有限。根据 ASML 、Nikon、Canon 三家光刻机财报数据统计，近两年全分析师郑震湘球光刻机每年出货量大约在 300~400 台之间，整体均价约0.3 亿美元。其执业证书编号：S0680518120002 中主要产品是KrF 约90~100 台，ArFi 约90~100 台。近几年EUV 出货量在邮箱：zhengzhenxiang@ 逐步增长，全球仅有ASML 具备供应能力，每年出货30~50 台，均价超过1 分析师佘凌星亿美元。执业证书编号：S0680520010001 ASML 主导全球光刻机市场。从光刻机格局来看，2020 年ASML 占据全球邮箱：shelingxing@ 光刻机市场84%的市场空间，Nikon 约7%，Canon 约5%。ASML 具有高分析师陈永亮度的垄断地位，并且由于EUV 跨越式的升级进步，ASML 在技术上的领先性执业证书编号：S0680520080002 更加明显。邮箱：chenyongliang@ 相关研究全球光刻机龙头ASML ，高研发、高利润率。ASML 在2020 年营业收入 140 亿美元，其中 75%的收入来自于销售设备，25%的收入来自于服务。公司 1、《电子：半导体景气度高涨，国产化黄金机遇》综合毛利率52%，营业利润率35%，净利率32%。全年平均ROE 约27%。 2021-07-18 公司研发投入 22 亿美元，占比约 16%。ASML 保持高强度研发投入，并且 2、《电子：半导体设备系列：刻蚀主赛道，有望加速导服务收入占比不断提高，巩固垄断地位。入国产