铜铟镓硒薄膜太阳能电池的研究现状及发展趋势.docVIP

铜铟镓硒薄膜太阳能电池的研究现状及发展趋势.doc

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铜锢掾硒薄膜太阳能电池 的研究现状及发展趋势 陈裕佳指导教师:杨春利 (西安建筑科技大学华清学院材料0904 01号) 摘要:介绍了薄膜太阳能电池结构、性能特点以及H前在研究和牛产过程屮铜 錮镣硒电池的制备方法;阐述了铜錮镣硒薄膜太阳能电池技术的优点,及其存 在的问题和未来的前景。 关键词:铜钢稼硒,太阳能电池,薄膜 Research Progress and Development Tendency of Cu(ln, Ga)Se2(CIGS)Thin Film Solar Cells Chen Yu Jia tutor: Yang Chun Li (Xian Un iversity of Architecture and Tech no logy Huaqi ng College) Abstract: The constructions and performanee characteristics of thin film solar cells based on Cu(ln+Ga)Se2 are introduced, in eluding their fabrication and technological processes. A brief descripti on of tech no logical adva ntages, and the problem and prospect in the future on CIGS。 Keywords: Cu(ln, Ga)Se2, solar cell, thin film 1概述 第三代太阳能电池就是铜钢掾硒CIGS (CIS屮掺入Ga)等化合物薄膜太阳 能电池及薄膜Si系太阳能电池。 学术界和产业界普遍认为太阳能电池的发展已经进入了第三代。第一代为 单晶硅太阳能电池,第二代为多晶硅、非晶硅等太阳能电池,铜钢镣硒薄膜太 阳电池具有牛产成本低、污染小、不衰退、弱光性能好等显著特点,光电转换 效率居各种薄膜太阳电池之首,接近于晶体硅太阳电池,而成本只是它的三分 之一,被称为下一代菲常有前途的新型薄膜太阳电池,是近儿年研究开发的热 点。 此外,该电池具有柔和、均匀的黑色外观,是对于外观有较高要求场所的 理想选择。 小样品CIGS薄膜太阳能电池的最高转化效率2010年8月刷新为20.3%,由 徳国太阳能和氢能研究机构ZSW采用共蒸镀法制备。大面积电池组件转化效率 及产量根据各公司制备工艺不同血有所不同,一般在10%-15%范围内。 2铜锢稼硒薄膜太阳能电池的结构 铜钢稼硒太阳能电池是20世纪80年代后期开发出来的新型太阳能电池,其 典型结构为多层膜结构,色插金属栅电极AI/窗口层n+-ZnO/Jrt质结n型层i?ZnO/ 缓冲层或过渡层CdS/光吸收层CIGS/背电极Mo/玻璃衬底等。 CIGS作为吸收层是CIGS薄膜太阳能电池的关键材料。CIGS材料有优良的 光学性能,转换率很高,但是由于CIGS由四种元素组成,对元素配比皱感,由 于多元晶格结构、多层界面结构、缺陷以及杂质等的存在增加了制备技术的难 度,而且对设备的精度和稳定性要求较高,因此H前还没有实现大规模工业化 生产。 CIGS由CIS(铜钢硒)发展而来,CulnSe2属于一、三、六族化合物。它是由 二、六族化合物衍化而来,其屮第二族元索被第一族Cu与第三族仆取代而形成 三元素化合物,室温下CulnSe2的晶体结构为黃铜矿结构。 与二、六族化合物的闪锌矿结构类似,Cu和In原子规则地填人原来第二族 原子的位置。因此可以将该结构视为由两个面心立方晶格套构而成:一个为阴 离子Se组成的面心立方晶格,一个为阳离子(Cu、In)对称分布的面心立方晶格, 即阳离子次晶格上被Cu和In原子占据的几率各50%,这种晶格的c/a值一般约为 2。这种结晶结构的化合物在高温吋原子容易活动移位,尤其是Cu和In原子,此 吋两者不再有规则的排列,因血呈现立方结构。 CulnSe湘存在的化学组成区间为7%(mol),这意味着即使偏离定比组成 (Cu: In: Se=1: 1: 2)-定程度,貝要化学组成仍在该区间内,该材料依然具 有黄铜矿结构以及相同的物理及化学特性。但是一旦偏离定比组成,材料屮将 会产牛点缺陷。而一,三、六族化合物的本征点缺陷如空位、间隙、错位种类 可达12种Z多,这些点缺陷会在禁带屮产生新能级,如同外加杂质一样影响材 料的光伏特性。 在CulnSe?基础上,掺杂Ga元索,使Ga取代部分同族的In原子构成CIGS。 通过调节Ga/(Ga+ln)可以改变CIGS的带隙,调节范围为1.04 eV到1.72 eV。 CIGS仍然是黄铜矿结构,具有CIS所有性能上的优点,且可灵活地调整和优化 禁带宽度。还可在膜厚方向调整G

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