液晶基波前成像方法研究.docVIP

PAGE / NUMPAGES 液晶基波前成像方法研究 跟着成像科技的发展 , 图像以其直观展现与大容量传达信息这一属性 , 遇到愈来愈多的重视。 图像信息的产生、 输运与获得 , 离不开颠簸性的光媒介。传统意义上的图像获得 , 就是利用光电探测芯片将空间压缩后的光场强度信息收集并记录下来的过程。 光波除携带鉴于振幅的强度信息外 , 还包含波谱、波前、偏振、波矢等与目标和环境属性亲密有关的多模特点信息 , 这些信息的捕捉对高效探测辨别复杂背景环境中的目标拥有重要意义。丈量图像的有关波前信息 , 能够揭露流传介质的扰动特点 , 从而鉴于波前畸变校订迅速恢复甚至优化目标图像。传统光学仪器往常鉴于单调性的光强丈量 , 发展新一代轻巧灵便的多模光学成像探测器就显得尤其急迫和重要 , 液晶资料则以其可电控的电光属性在发展有关功能器件方面显示出特别价值。 本论文主要展开了鉴于电控液晶微透镜阵列进行波前成像方法的研究。 主要内容以下 : 第一 , 依据液晶资料的基本物性和商用液晶资料的典型性能 参数进行功能化仿真 , 获得液晶器件其液晶分子指向矢散布、电势散布和相位延缓散布属性 , 从而依照仿真结果设计电极图案 , 经过工艺试验探索获得合理的构造和工艺参数并制作原理样片 , 经过成立光学测试架构获得重点性的光学和电光性能及参数指标 , 为液晶器件原型的构造和参数优化确立基础。而后 , 展开液晶基波前成像技术研究。传统的波前成像系统 , 往常由两条独立光路分别达成波前丈量和图像获得 , 拥有系统体积质量大、构造复杂、成像效能低等劣势。鉴于液晶资料的微透镜阵列在无电信号作用时仅能使光波产生特定程度的 相位延缓 , 不会影响后续的光电探测操作。在液晶器件上加载电驱控信号 , 将显示鉴于阵列化微透镜的控光行为并用于成像光波的波前测 量, 实现波前和图像的电控一体化丈量 , 达成液晶基波前成像系统经过启动和封闭液晶微透镜的波前丈量和图像获得操作。 考虑到波前鉴于单调波长这一物性 , 进一步议论剖析了光波段宽度对波前丈量的影响, 比较剖析了复合光如白光波前与单色光如红光、绿光和蓝光等波前的丈量结果 , 提出了将单色光波前变换为复合光波前的方法。鉴于波前分解和合成方法所获得的波前与目标波前拥有高相像度 , 提出了使用白光源对目标履行波前成像的方法。 针对达成波前丈量后封闭液晶微透镜阵列 , 成像系统没法直接对景深外目标清楚成像这一问题 , 提出了液晶基波前成像景深扩展方法。 经过调理加载在液晶微透镜阵列上的驱控信号 , 对拥有不一样物距的目标进行鉴于液晶微透镜的二次成像及简单的图像办理实现景深外目标的清楚成像。 所成立的景深扩展法较传统方法可显示更加丰富的目标细节。最后 , 因为存在波前对目标深度不敏感而难以获得深度信息这一问题 , 展开了液晶基物空间深度丈量方法研究。鉴于液晶微透镜阵列的电调焦属性 , 成立了电驱控信号均方幅值与目标深度的对应关系。 经过采纳 Sobel 边沿检测算子评论阵列化子图的成像成效 , 获得了清楚成像的最正确电驱控信号特 征, 从而展开了鉴于调变电驱控信号的目标深度标定研究 , 显示了液晶基物空间深度丈量方法在丈量目标深度尺度方面的有效性。