一种等离子真空镀膜室6.pdf

实用新型名称：一种等离子真空镀膜室 实用新型名称：一种等离子真空镀膜室 发明人：李灿民，陶满 发明人：李灿民，陶满 说明书摘要 说明书摘要 本发明公开了一种等离子真空镀膜室，其特征在于，镀膜室内设有金属网 本发明公开了一种等离子真空镀膜室，其特征在于，镀膜室内设有金属网 罩，金属网罩设有电子逃逸 口，所述金属网罩通过一横向贯穿的金属棒将其固 罩，金属网罩设有电子逃逸 口，所述金属网罩通过一横向贯穿的金属棒将其固 定于镀膜室内，所述金属棒与高脉冲电源电连接，其两端搭通过玻璃砖固定在 定于镀膜室内，所述金属棒与高脉冲电源电连接，其两端搭通过玻璃砖固定在 支架上，所述金属棒与玻璃砖之间连接方式为搭接，搭接处存有的间隙填充有 支架上，所述金属棒与玻璃砖之间连接方式为搭接，搭接处存有的间隙填充有 铝箔。本实用新型通过在金属网罩上设置电子逃逸 口，可以将电子从某一固定 铝箔。本实用新型通过在金属网罩上设置电子逃逸 口，可以将电子从某一固定 方向释放出来，从而避免了电荷在工件、网罩、玻璃砖上的积累，可以显著减 方向释放出来，从而避免了电荷在工件、网罩、玻璃砖上的积累，可以显著减 少打火的次数。玻璃砖通过开设小孔使其 自身在高温下不会爆裂；通过在金属 少打火的次数。玻璃砖通过开设小孔使其 自身在高温下不会爆裂；通过在金属 棒和玻璃砖之间填充铝箔，可以有效缓解空心阴极造成的打火现象。 棒和玻璃砖之间填充铝箔，可以有效缓解空心阴极造成的打火现象。 权利要求书 权利要求书 1、一种等离子真空镀膜室，其特征在于，镀膜室内设有金属网罩，金属网 1、一种等离子真空镀膜室，其特征在于，镀膜室内设有金属网罩，金属网 罩设有电子逃逸 口，所述金属网罩通过一横向贯穿的金属棒将其固定于镀膜室 罩设有电子逃逸 口，所述金属网罩通过一横向贯穿的金属棒将其固定于镀膜室 内，所述金属棒与镀膜室外高脉冲电源电连接，其两端通过玻璃砖固定在支架 内，所述金属棒与镀膜室外高脉冲电源电连接，其两端通过玻璃砖固定在支架 上，所述金属棒与玻璃砖之间连接方式为搭接，搭接处存有的间隙填充有铝箔。 上，所述金属棒与玻璃砖之间连接方式为搭接，搭接处存有的间隙填充有铝箔。 2、根据权利要求 1 所述的一种等离子真空镀膜室，其特征在于，所述电子 2、根据权利要求 1 所述的一种等离子真空镀膜室，其特征在于，所述电子 逃逸 口至少一个 ，设置在非正对着玻璃砖 的位置 ，电子逃逸 口的大 小为 逃逸 口至少一个 ，设置在非正对着玻璃砖 的位置 ，电子逃逸 口的大 小为 2 2 2 2 10cm -30cm 。 10cm -30cm 。 3、根据权利要求 1 所述的一种等离子真空镀膜室，其特征在于，所述玻璃 3、根据权利要求 1 所述的一种等离子真空镀膜室，其特征在于，所述玻璃 砖上设有一个直径为 0.5cm-2cm 防爆裂的小孔。 砖上设有一个直径为 0.5cm-2cm 防爆裂的小孔。 说明书 说明书 一种等离子真空镀膜室 一种等离子真空镀膜室 技术领域 技术领域 本发明涉及镀膜领域，具体地说是一种对各种绝缘材质和导电材质的工件 本发明涉及镀膜领域，具体地说是一种对各种绝缘材质和导电材质的工件 内外表面进行镀膜的等离子镀膜设备。 内外表面进行镀膜的等离子镀膜设备。 背景技术 背景技术 等离子全方位离子沉积技术 （Plasma Immersion Ion Deposition ），简称 等离子全方位离子沉积技术 （Plasma Immersion Ion Deposition ），简称 为 PIID 技术，是等离子增强化学气相沉积技术的一种，其原理是向镀膜工件施 为 PIID 技术