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负性光刻胶产业园项目策划书.docx

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    泓域咨询/负性光刻胶产业园项目策划书 报告说明 聚4-羟基苯乙烯（PHOST）因其在248nm波长下的透明性、高灵敏度和抗刻蚀性等优势，成为了用于KrF光刻技术的光刻胶的主要成分。通过引入不同的酸致脱保护基团，在光致产酸剂的配合下就可以使得KrF光刻胶拥有一定的光响应性，从而在光照条件下发生聚合物的溶解度变化。常见的酸致脱保护基团包括4-叔丁基氧基羰基（t-BOC）类、酯类和乙缩醛类三种。 根据谨慎财务估算，项目总投资32565.19万元，其中：建设投资26090.98万元，占项目总投资的80.12%；建设期利息563.25万元，占项目总投资的1.73%；流动资金5910.96万元，占项目总

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