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LDI日立曝光设备说明
LDI曝光制程介紹大綱
1. 曝光製程定義
2. HDI曝光製程流程說明
3. LDI技術說明
4. LDI曝光機設備介紹
1. 曝光製程定義
曝光(Exposure)
利用UV or 鐳射光將客戶需要之影像轉移到基板干膜上,搭配後段處理工序,以完成客戶所需之圖形形成.
影像轉移前
影像轉移后
整板電鍍
灌孔整平
2.HDI曝光製程流程說明
前處理
貼 膜
曝 光
顯 影
蝕 刻
去 膜
AOI
黑化
2.1.1 N 層 Process
2.1 HDI曝光製程前後流程
2.1.2 C.M. Process
前處理
貼膜
曝光
顯影
蝕刻
去膜
2.1.3 Q/L Process
Conformal Mask
蝕刻
去膠渣
雷射鑽孔
AOI
黑化
整板電鍍
貼 膜
曝 光 顯 影
去 膜
2.1.4 A/L Process
Conformal Mask
蝕刻
去膠渣
雷射鑽孔
整板電鍍
貼 膜
曝 光 顯 影
去 膜
鑽孔
2.2 HDI曝光製程品質關聯圖
Input品質特性
HDI曝光品質項目
Output生產影響
1.曝光雜質
2.對位不良
3.真空密著不良
4.曝光能量異常
5.底片異常
1.線細、斷路、
缺口
2.層間對位不良
3.破孔
4.顯影不良,吸氣不良
5.線粗、短路
1.板面異物
無塵室異物
2.貼膜SPACE不當
3.貼膜皺紋
4.板彎板翹
5.干膜附著力不足
3.LDI技術說明
3.1 LDI定義
3.2 LDI之優點說明
3.3 LDI技術類型說明
3.4 LDI之技術運用在板面上之實例
3.1 LDI定義
LDI是Laser Director Imaging (鐳射直接成像)的縮寫,指的是利用
新型技術直接將客戶所需之影像資料通過光的方式掃描到板面上,
較之前傳統曝光機(需要將影像資料事先畫在D/F)在技術上進步;
板面行進方向
直接成像技術
L D I
直接將圖案打印在乾膜上
傳統曝光機
利用UV光將底片上固定圖案轉移到乾膜上
LDI不需底片,可節省底
片成本及底片繪製時間
Dry film
3.2 LDI之優點說明
Physical panel
CAM image
Image targets
Panel targets
Alignment (Best fit)
Alignment Scaling(Perfect fit)
Accurate Registration; Auto Alignment Scaling
傳統曝光機
LDI 曝光機
材料漲縮改善
Date:
2009/12/29
Panel size:
18*22
System model:
Paragon8800i
Panel thickness:
14.5mil
Dry film resist:
Asahi AQ-3088
Exposuer energy:
25mj
LDI序列号 SN
层别 layer
解析度 resolution
SCALING.X
SCALING.Y
exposure time
1
co-1
8000dpi
1.000629
1.000642
26 sec
so-1
1.000600
1.000628
26 sec
2
co-1
8000dpi
1.000619
1.000640
26 sec
so-1
1.000665
1.000592
26 sec
3
co-1
8000dpi
1.000661
1.000572
26 sec
so-1
1.000665
1.000592
26 sec
4
co-1
4000dpi
1.000590
1.000635
24 sec
so-1
1.000612
1.000674
24 sec
R(PPM)
75
202
LDI曝光機可采用CCD自動量測板角靶點,根據量測結果自動調整影像縮放比,并可將此縮放比曝光到板子的板邊賊區。既改善對位效果,又便于後制程分類及材料漲縮數據分析,此Sample對位結果:
偏移最大1.06mil,最小0mil,平均0.76mil
0~2mil偏移數據CPK=1.75
快速打樣生產時間縮短
Dainippon Screen
3.3 LDI技術類型說明
Laser
Polygon
Mirror
Panel
Feed direction
Scan
direction
Wave Length:355nm
Polygon Mirror System
DMD
Panel
Feed direction
Laser or Lamp
405nm
DMD (Digital Micro Mirror) System
Hitachi via
DE series
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