第四章 器件制备基础.pptVIP

第1页，共13页，编辑于2022年，星期二 4.1 制备过程 1、清洗 2、氧化 3、扩散或离子注入 4、光刻 5、薄膜沉积 第2页，共13页，编辑于2022年，星期二 1、清洗 常用硅片清洗液 Ⅰ号液：配方：NH4OH:H2O2:H2O=1:1:5-1:2:7 使用条件：80?5?C，煮10分钟 作用：去油脂，去光刻胶残膜，去金属离子和金属原子 Ⅱ号液：配方：HCl:H2O2:H2O=1:1:6-1:2:8 使用条件：80?5?C，煮10分钟 作用：去金属离子和金属原子 Ⅲ号液：配方：H2SO4：H2O2=3：1 使用条件：120?10?C，煮15分钟 作用：去油脂，去腊，去金属离子和金属原子 第3页，共13页，编辑于2022年，星期二 2、氧化 干氧：Si+O2=SiO2 膜层致密，理想的Si-SiO2界面，生长速度慢 湿氧：Si+2H2O=SiO2+2H2 生长速度快，膜层致密性较差 第4页，共13页，编辑于2022年，星期二 2、氧化 氧化系统的简单说明图 第5页，共13页，编辑于2022年，星期二 2、氧化 （100）面和（111）面SiO2的氧化生长曲线 第6页，共13页，编辑于2022年，星期二 3、扩散 基本工艺流程 第7页，共13页，编辑于2022年，星期二 3、扩散 4.5 磷的液态源扩散示意图 第8页，共13页，编辑于2022年，星期二 3、扩散 扩散温度900-1200?C。 P源：POCl3, B源：BN，BO3 一般分为预扩散和再扩散 预扩散后： 再扩散后 第9页，共13页，编辑于2022年，星期二 4、光刻 （1）涂胶 （2）坚膜 （3）掩膜板 （4）瀑光 （5）显影 负光刻胶：光照后发生聚合反应，难以去除 正光刻胶：光照后，感光剂发生分解，容易去除。 第10页，共13页，编辑于2022年，星期二