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舟山半导体清洗设备项目可行性研究报告.docx

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    泓域咨询/舟山半导体清洗设备项目可行性研究报告 报告说明 升级方向：高效且无损。在过去的25年中，随着制程升级，晶圆湿法清洗变得越来越复杂和高效。清洗需要强力有效，还要减少对晶圆表面的损伤。清洁步骤占半导体工艺所有处理步骤1/3，最多已经达到200次。几乎所有制程的前后都需要清洗环节。 根据谨慎财务估算，项目总投资31727.18万元，其中：建设投资23371.65万元，占项目总投资的73.66%；建设期利息649.88万元，占项目总投资的2.05%；流动资金7705.65万元，占项目总投资的24.29%。 项目正常运营每年营业收入64800.00万元，综合总成本费用51345.57万元，净

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