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光学投影平版印刷与光致抗蚀剂 三、化学增幅抗蚀剂 ●光致产酸剂—— 第二十八页，共四十二页。 光学投影平版印刷与光致抗蚀剂 三、化学增幅抗蚀剂 ●光致产酸剂—— 苯环被稠环替代； 产酸效率 第二十九页，共四十二页。 光学投影平版印刷与光致抗蚀剂 三、化学增幅抗蚀剂 ●抗蚀剂的配制工艺 配方（1）组成： 成膜树脂 100% N-羟基马来海松酸酰亚胺磺酸酯产酸剂 5% 乙二醇单乙醚 适量 制作工艺：将配方量的成膜树脂和产酸剂加入计算量的乙二醇单乙醚中，搅拌溶解为溶液。待其充分溶解后，过滤；将适量滤饼离心旋涂于石英片上；将涂敷抗蚀剂的石英片置于100℃烘烤箱中，烘烤2min;膜厚约0.4-0.6μm。用所需紫外曝光光源测定该树脂模的紫外吸收光谱； 第三十页，共四十二页。 光学投影平版印刷与光致抗蚀剂 引言 1、光学投影平版印刷术 ●集成电路的诞生与摩尔定律； ●光学投影平版印刷术原理与工艺； ●光学投影平版印刷术材料与功能； 2、光致抗蚀剂 ●成膜树脂； ●光敏化合物 ●溶剂与添加剂 3、化学增幅抗蚀剂 ●原理 ● 光致产酸剂 4、提高分辨率的途径 5、光学投影平板印刷的极限 结束语 第一页，共四十二页。 光学投影平版印刷与光致抗蚀剂 引言 晶体管引起的技术革命——集成电路； 半导体工业； 信息（IT)产业 超净高纯电子化学品。。。。 第二页，共四十二页。 光学投影平版印刷与光致抗蚀剂 一、光学平板印刷术 ●集成电路的诞生：1947年——William Shockley, John Bardeen 和Walter Brattain（Bell实验室） ；晶体管 1956年——诺贝尔奖 1959年——Jach Kilby /Robert Noyce ●摩尔（Moore)定律：芯片集成度每18个月翻一番；器件尺寸每3年缩小0.7倍； ●摩尔定律的幕后推手：光刻技术 ——利用光致抗蚀剂（或称光刻胶）感光后因光化学反应而形成溶解性不同的特点，将掩模板上的图形刻制到被加工表面上。 第三页，共四十二页。 光学投影平版印刷与光致抗蚀剂 一、光学平板印刷术 ●光学投影平版印刷术原理与工艺 平板印刷概念——被印物与底板或非印物同在一个平面上；印刷时，底板以水浸湿，利用油水不沾原理，以油墨将印物印刷； 光学投影平版印刷——将通过掩膜的光图案，经过光学系统，投影在涂有光致抗蚀剂的晶片上，后者发生内部反应后，经显影，刻蚀后，将掩膜图案留在晶片上 一、光学平板印刷术 第四页，共四十二页。 光学投影平版印刷与光致抗蚀剂 一、光学平板印刷术 ●光学投影平版印刷术原理 第五页，共四十二页。 光学投影平版印刷与光致抗蚀剂 一、光学平板印刷术 光学投影平版印刷术工艺 ●利用旋涂工艺将光致抗蚀剂均匀旋涂在底板或硅片上； ●套准曝光——将掩膜套准已旋涂了光致抗蚀剂的底板或硅片并曝光。 ●显影——用显影液浸泡，光致抗蚀剂的曝光部分被溶解掉； ●刻蚀，转移——腐蚀液继续作用于显露出的底板或硅片，将图形转移到底板或硅片上； ●剥去未感光的抗蚀基层。 第六页，共四十二页。 光学投影平版印刷与光致抗蚀剂 一、光学平板印刷术 光学投影平版印刷术原理与工艺 第七页，共四十二页。 学投影光平版印刷与光致抗蚀剂 第八页，共四十二页。 学投影光平版印刷与光致抗蚀剂 第九页，共四十二页。 光学投影平版印刷与光致抗蚀剂 一、光学平板印刷术 光学投影平版印刷术材料与功能 1、 底板或硅片或称硅圆片（wafer）；光学投影平版印刷的承接物——通过刻蚀，在硅片上生成集成电路； 第十页，共四十二页。 光学投影平版印刷与光致抗蚀剂 第十一页，共四十二页。 光