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中北大学
梁庭
2013 09;绪论、第一章 ;半导体(semiconductor),顾名思义就是指导电性介于导体与绝缘体的物质
;第二章 量子力学初步;第三章 固体量子理论初步;;第三章 固体量子理论初步;第三章 固体量子理论初步;第四章 平衡半导体;对于本征半导体,费米能级位于禁带中心(附近)
费米能级的位置需保证电子和空穴浓度的相等
如果电子和空穴的有效质量相同,状态密度函数关于禁带对称。
对于普通的半导体(Si)来说,禁带宽度的一半,远大于kT(~21kT),从而导带电子和价带空穴的分布可用波尔兹曼近似来代替
;本征载流子浓度和温度、禁带宽度的关系;为什么要掺杂?
半导体的导电性强烈地随掺杂而变化
硅中的施主杂质与受主杂质能级;掺入施主杂质,费米能级向上(导带)移动,导带电子浓度增加,空穴浓度减少
过程:施主电子热激发跃迁到导带增加导带电子浓度;施主电子跃迁到价带与空穴复合,减少空穴浓度;施主原子改变费米能级位置,导致重新分布;掺入受主杂质,费米能级向下(价带)移动,导带电子浓度减少,空穴浓度增加
过程:价带电子热激发到受主能级产生空穴,增加空穴浓度;导带电子跃迁到受主能级减少导带电子浓度;受主原子改变费米能级位置,导致重新分布
;载流子浓度n0和p0的公式:
只要满足玻尔兹曼近似条件,该公式即可成立
只要满足玻尔兹曼近似条件,n0p0的乘积依然为本征载流子浓度(和材料性质有关,掺杂无关)的平方。(虽然在这里本征载流子很少)
例4.5直观地说明了费米能级的移动,对载流子浓度造成的影响:费米能级抬高了约0.3eV,则电子浓度变为本征浓度的100000倍。;载流子浓度n0、p0的另一种表达方式:;发生简并的条件
大量掺杂
温度的影响(低温简并)
简并系统的特点:
杂质未完全电离
杂质能级相互交叠分裂成能带,甚至可能与带边相交叠。杂质上未电离电子也可发生共有化运动参与导电。;电中性条件
在平衡条件下,补偿半导体中存在着导带电子,价带空穴,还有离化的带电杂质离子。但是作为一个整体,半导体处于电中性状态。因而有:;;载流子浓度、掺杂浓度、费米能级之间的关系;重要的公式:;第五章 载流子输运现象;;电导率和电阻率
半导体的电阻率和电导率;右图所示为一块N型半导体材料中,当施主杂质的掺杂浓度ND为1E15cm-3时,半导体材料中的电子浓度及其电导率随温度的变化关系曲线。;扩散电流密度:
对于带电粒子来说,粒子的扩散运动形成扩散电流。
;第六章 非平衡过剩载流子;扩散流导致的浓度变化; 式中δn是过剩少数载流子电子的浓度,而τn0则是小注入条件下少数载流子电子的寿命。 类似地,对于N型半导体材料来说,小注入条件下的双极输运方程同样可表示为:;介质弛豫时间常数;在这种情况下,决定过剩载流子浓度分布的方程主要有三个,第一个是泊松方程,即:;对电流方程求散度,并利用泊松方程:;第七章 pn结; pn结的求解过程
耗尽区假设:
空间电荷区内无自由电荷(NA>>p0、Nd>>n0)
耗尽区外为中性区(Nd=n0、NA=p0)、无电场
;;则可以得到:;第八章 pn结二极管; 由此,我们可以得出pn结处于正偏和反偏条件时,耗尽区边界处的少数载流子分布;对于三种可能的n型区长度,下表总结了三种情况下的空穴电流密度表达式,与此类似,对于不同的p型区长度,同样可以给出三种情况下的电子电流密度表达式。;完整的小信号等效电路模型;第九章 金属半导体和半导体异质结; 肖特基接触形成
接触前 接触后;利用隧道效应制成的欧姆接触
提高表面杂质浓度,利用隧道效应制成的欧姆接触,这是目前在生产实践中主要使用的方法。;第十章 双极晶体管;实际器件结构图
先进的双层多晶硅BJT结构埋层:减小串联电阻;隔离:采用绝缘介质;;晶体管电流的简化表达形式;限制因素小结;re’为发射结的扩散电阻,Cp为发射结的寄生电容。;第十一章 MOS晶体管; 当栅电压达到表面强反型的阈值电压时,半导体衬底材料的表面势也将达到临界阈值点,即:;MOS电容结构后,外加栅压为零时,热平衡状态下的能带弯曲情况;;高频与低频条件下,MOS电容的C-V特性示意图; NMOS和PMOS两种器件的I-V特性对照表如下:;第55页,共56页。;第十二章中北大学
梁庭
2013 09;绪论、第一章 ;半导体(semiconductor),顾名思义就是指导电性介于导体与绝缘体的物质
;第二章 量子力学初步;第三章 固体量子理论初步;;第三章 固体量子理论初步;第三章 固体量子理论初步;第四章 平衡半导体;对于本征半导体,费米能级位于禁带中心(附近)
费米能级的位置需保证电子和空穴浓度的相等
如果电子和空穴的有效质量相同,状态密度函数关于禁带对
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