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本实用新型提供一种脱模装置，包括承载机构，用于承载软膜，脱模机构，设置在承载机构的顶部边缘，脱模机构外壁设有磨砂区域与光滑区域，软膜的边缘与磨砂区域和光滑区域相接触，磨砂区域设置在光滑区域下方，以平衡脱模机构外壁上的摩擦力，移动吸附机构，设置在承载机构的上方，用于吸附软膜，并将软膜从承载机构内吸出。本实用新型中的脱模装置，平衡了软膜与脱模机构接触时的摩擦力，使得软膜从承载机构脱模的过程中，能够更加的平顺，避免因摩擦力过大而导致软膜在脱模过程中产生破损的情况，同时也避免了因摩擦力过小而导致软膜难以
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 218342650 U
(45)授权公告日 2023.01.20
(21)申请号 202222210484.5
(22)申请日 2022.08.22
(73)专利权人 江西兆驰半导体有限公司
地址 3
知识产权出版社有限责任公司（原名专利文献出版社）成立于1980年8月，由国家知识产权局主管、主办。长期以来， 知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作， 经过多年来的积累，已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。
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