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2023-03-01 发布于北京
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一种抛光垫.pdf

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本发明公开一种抛光垫，包括研磨层，所述研磨层包括中心区域和设置在中心区域外周的外周区域，定义所述中心区域的半径为R1，研磨层半径为R，在研磨层半径方向上，所述外周区域的宽度W＝R‑R1；所述中心区域的半径与研磨层半径之比满足：0.01≤R1/R≤0.10；本发明通过对抛光垫的不同研磨区及其沟槽的尺寸及相关参数进行综合设计，使得本发明的抛光垫具有优异的研磨性能，并且具有较长的使用寿命。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114274043 A (43)申请公布日 2022.04.05 (21)申请号 202111633117.X (22)申请日 2021.12.29 (71)申请人湖北鼎汇微电子材料有限公司