关于成立真空传输系统公司可行性报告【参考模板】.docx

泓域咨询/关于成立真空传输系统公司可行性报告  关于成立真空传输系统公司 可行性报告 xxx（集团）有限公司  报告说明 （一）薄膜沉积设备基本情况 薄膜沉积设备通常用于在基底上沉积导体、绝缘体或者半导体等材料膜层，使之具备一定的特殊性能，广泛应用于光伏、半导体等领域的生产制造环节。 （二）薄膜沉积设备技术基本情况 薄膜沉积设备按照工艺原理的不同可分为物理气相沉积（PVD）设备、化学气相沉积（CVD）设备和原子层沉积（ALD）设备。 物理气相沉积（PVD）技术是指在真空条件下采用物理方法将材料源（固体或液体）表面气化成气态原子或分子，或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在